[发明专利]用于调光玻璃的三层结构透明导电薄膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201810658119.6 | 申请日： | 2018-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN108878058B | 公开（公告）日： | 2019-11-22 |
| 发明（设计）人： | 张雄涛;祝柏林;许雄飞;赵绚;张恩;王崇杰;陈红祥 | 申请（专利权）人： | 湖北雄华科技有限公司;武汉科技大学 |
| 主分类号： | H01B13/00 | 分类号： | H01B13/00;C23C14/08;C23C14/18;C23C14/35 |
| 代理公司： | 42222 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) | 代理人： | 张火春<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
| 地址： | 432400 湖北省*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于调光玻璃的三层结构透明导电薄膜及其制备方法。其技术方案是：将氧化物靶材和金属靶材装入磁控溅射系统靶座上；于氩气或氩气与氢气的混合气体或氩气与氧气的混合气体气氛中，在衬底表面采用溅射法沉积氧化物，得氧化物层；然后于氩气与氢气的混合气体气氛中，在氧化物层表面采用溅射法沉积金属，得金属层；最后于氩气或氩气与氢气的混合气体或氩气与氧气的混合气体气氛中，在金属层上采用溅射法沉积所述氧化物，制得用于调光玻璃的三层结构透明导电薄膜。本发明工艺简单和生产成本低，所制制品光学、电学以及力学性能优良。本发明由氧化物层、金属层和氧化物层构成，氧化物层和金属层对应的厚度为20～100nm和3～20nm。 | ||
| 搜索关键词： | 氩气 氧化物层 金属层 混合气体气氛 透明导电薄膜 调光玻璃 三层结构 氢气 溅射法 混合气体 制备 氧气 磁控溅射系统 氧化物层表面 沉积氧化物 生产成本低 氧化物靶材 沉积金属 衬底表面 金属靶材 力学性能 电学 氧化物 靶座 沉积 装入 | ||
【主权项】：
1.一种用于调光玻璃的三层结构透明导电薄膜的制备方法，其特征在于所述制备方法的步骤是：/n步骤一、将氧化物靶材和金属靶材装入磁控溅射系统的靶座上；/n步骤二、将磁控溅射系统的腔体抽真空至压强小于3×10-3Pa，于氩气气氛或于氩气与氧气的混合气氛或于氩气与氢气的混合气氛中，在溅射气压为0.2～3Pa和溅射功率为60～150W条件下对氧化物靶材进行溅射，在衬底表面沉积氧化物，沉积速率为0.25～1.0nm/s，沉积时间为60～160s，得到氧化物层；/n所述氩气与氧气的流量比和所述氩气与氢气的流量比均为1∶(0.02～0.35)；/n步骤三、在氩气与氢气的混合气体气氛中，以溅射气压为0.2～0.8Pa和溅射功率为10～150W条件下对金属靶材进行溅射，在所述氧化物层表面沉积金属，沉积速率为0.04～0.3nm/s，沉积时间为20～150s，得到金属层；/n所述氩气与氢气的流量比为1∶(0.15～0.35)；/n步骤四、于氩气气氛或于氩气与氧气的混合气氛或于氩气与氢气的混合气氛中，在溅射气压为0.2～3Pa和溅射功率为60～150W条件下对氧化物靶材进行溅射，在所述金属层表面沉积所述氧化物，沉积速率为0.25～1.0nm/s，沉积时间为60～160s；制得用于调光玻璃的三层结构透明导电薄膜；/n所述氩气与氧气的流量比和所述氩气与氢气的流量比均为1∶(0.02～0.35)；/n步骤一至步骤四的工作温度为室温。/n
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