[发明专利]用于调光玻璃的三层结构透明导电薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种用于调光玻璃的三层结构透明导电薄膜的制备方法，其特征在于所述制备方法的步骤是：

步骤一、将氧化物靶材和金属靶材装入磁控溅射系统的靶座上；

步骤二、将磁控溅射系统的腔体抽真空至压强小于3×10^-3Pa，于氩气气氛或于氩气与氧气的混合气氛或于氩气与氢气的混合气氛中，在溅射气压为0.2～3Pa和溅射功率为60～150W条件下对氧化物靶材进行溅射，在衬底表面沉积氧化物，沉积速率为0.25～1.0nm/s，沉积时间为60～160s，得到氧化物层；

所述氩气与氧气的流量比和所述氩气与氢气的流量比均为1∶(0.02～0.35)；

步骤三、在氩气与氢气的混合气体气氛中，以溅射气压为0.2～0.8Pa和溅射功率为10～150W条件下对金属靶材进行溅射，在所述氧化物层表面沉积金属，沉积速率为0.04～0.3nm/s，沉积时间为20～150s，得到金属层；

所述氩气与氢气的流量比为1∶(0.15～0.35)；

步骤四、于氩气气氛或于氩气与氧气的混合气氛或于氩气与氢气的混合气氛中，在溅射气压为0.2～3Pa和溅射功率为60～150W条件下对氧化物靶材进行溅射，在所述金属层表面沉积所述氧化物，沉积速率为0.25～1.0nm/s，沉积时间为60～160s；制得用于调光玻璃的三层结构透明导电薄膜；

所述氩气与氧气的流量比和所述氩气与氢气的流量比均为1∶(0.02～0.35)；

步骤一至步骤四的工作温度为室温。

2.根据权利要求1所述的用于调光玻璃的三层结构透明导电薄膜的制备方法，其特征在于所述氧化物靶材：纯度高于99.9％，致密度高于95％；

所述氧化物靶材的材质为二氧化锡、氧化锌、三氧化二铟、氟掺杂二氧化锡、铝掺杂氧化锌、镓掺杂氧化锌和锡掺杂三氧化二铟中的一种。

3.根据权利要求1所述的用于调光玻璃的三层结构透明导电薄膜的制备方法，其特征在于所述金属靶材：纯度高于99.9％，致密度高于95％；

所述金属靶材的材质为银、铜、银合金和铜合金中的一种。

4.根据权利要求1所述的用于调光玻璃的三层结构透明导电薄膜的制备方法，其特征在于所述衬底为玻璃衬底或为柔性衬底，所述柔性衬底的材质为超薄玻璃、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚醚醚酮和聚甲基丙烯酸甲酯中的一种；

所述玻璃衬底的更换方式为片到片的方式；所述柔性衬底的更换方式是为卷到卷的方式。

5.一种用于调光玻璃的三层结构透明导电薄膜，其特征在于所述用于调光玻璃的三层结构透明导电薄膜是根据权利要求1～4项中任一项所述用于调光玻璃的三层结构透明导电薄膜的制备方法所制备的用于调光玻璃的三层结构透明导电薄膜；

所述用于调光玻璃的三层结构透明导电薄膜由氧化物层、金属层和氧化物层构成；所述金属层为银单质薄膜、铜单质薄膜、银合金薄膜和铜合金薄膜中的一种，所述氧化物层为二氧化锡薄膜、氧化锌薄膜、三氧化二铟薄膜、氟掺杂二氧化锡薄膜、铝掺杂氧化锌薄膜、镓掺杂氧化锌薄膜和锡掺杂三氧化二铟薄膜中的一种；

所述用于调光玻璃的三层结构透明导电薄膜：氧化物层的厚度为20～100nm，金属层的厚度为3～20nm。