[发明专利]一种均匀性光伏硅片刻蚀机构

摘要

本发明公开一种均匀性光伏硅片刻蚀机构，包括控制终端、进料口、刻蚀槽、硅片清洗喷头、碱洗槽、去PSG槽、分刀式吹干机和出料口，控制终端底侧设有进料口，进料口与刻蚀槽固定连接，刻蚀槽内安装有硅片清洗喷头，刻蚀槽一端与碱洗槽固定连接，碱洗槽一端与去PSG槽固定连接，去PSG槽一端与分刀式吹干机连接，分刀式吹干机一端设置有出料口，本发明适应性强，表面刻蚀均匀性好、对硅片损伤少，几乎适用于所有的金属、玻璃、塑料等材料，相对于传统的刻蚀系统，本发明通过控制终端收集数据，对收集到的数据进行分析，通过调整刻蚀均匀系统调整刻蚀均匀性，有效地提高工作效率，具有良好的经济效益和社会效益，适宜推广使用。

主权项

1.一种均匀性光伏硅片刻蚀机构，包括控制终端(1)、进料口(2)、刻蚀槽(3)、硅片清洗喷头(4)、碱洗槽(5)、去PSG槽(6)、分刀式吹干机(7)和出料口(8)，其特征在于，所述控制终端(1)底侧设有进料口(2)，所述进料口(2)与刻蚀槽(3)固定连接，所述刻蚀槽(3)内安装有硅片清洗喷头(4)，所述刻蚀槽(3)一端与碱洗槽(5)固定连接，所述碱洗槽(5)一端与去PSG槽(6)固定连接，所述去PSG槽(6)一端与分刀式吹干机(7)连接，所述分刀式吹干机(7)一端设置有出料口(8)。