[发明专利]光学层叠体的制造方法在审
| 申请号： | 201810621617.3 | 申请日： | 2018-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN109143441A | 公开（公告）日： | 2019-01-04 |
| 发明（设计）人： | 羽场康弘;幡中伸行 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 曹阳 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于，提供一种光学层叠体的制造方法，该方法会减少制造工序中产生的来自于构成光学层叠体的材料的异物在制造现场的残留量。本发明提供一种光学层叠体的制造方法，是制造具备光学膜(1)和由聚合性液晶化合物的聚合物形成的聚合物层(2)、且将所述聚合物层(2)夹隔着粘合剂或粘接剂层(3)与所述光学膜(1)层叠而成的光学层叠体(4)的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 光学层叠体 制造 聚合物层 光学膜 聚合性液晶化合物 聚合物形成 粘合剂 粘接剂层 制造工序 残留量 异物 | ||
【主权项】：
1.一种光学层叠体的制造方法，是制造具备光学膜(1)、和由聚合性液晶化合物的聚合物形成的聚合物层(2)、且所述聚合物层(2)夹隔着粘合剂或粘接剂层(3)与所述光学膜(1)层叠而成的光学层叠体(4)的方法，该方法包括：带有基材膜的聚合物层除静电运送工序(A)，将具备长尺寸的基材膜(5)和层叠于所述基材膜(5)上的所述聚合物层(2)、且所述基材膜(5)能够从所述聚合物层(2)剥离的长尺寸的带有基材膜的聚合物层(6)一边除静电一边沿长度方向运送；贴合工序(B)，对利用所述带有基材膜的聚合物层除静电运送工序(A)运送的所述带有基材膜的聚合物层(6)，在所述聚合物层(2)侧夹隔着粘合剂或粘接剂层(3)贴合长尺寸的光学膜(1)，得到具备长尺寸的基材膜(5)、所述聚合物层(2)、和夹隔着所述粘合剂或粘接剂层(3)贴合于该聚合物层(2)上的长尺寸的光学膜(1)、且所述基材膜(5)能够从所述聚合物层(2)剥离的长尺寸的带有基材膜的光学层叠体(7)；以及剥离工序(C)，从所述贴合工序(B)中得到的带有基材膜的光学层叠体(7)剥离所述基材膜(5)而得到所述光学层叠体(4)，并且该方法包括基材膜除静电运送工序(D)，将所述剥离工序(C)中被剥离后的所述基材膜(5)一边除静电一边沿长度方向运送，所述带有基材膜的聚合物层除静电运送工序(A)中的除静电后的所述带有基材膜的聚合物层(6)的带电量的绝对值为0.01kV以上且6kV以下，或者所述基材膜除静电运送工序(D)中的除静电后的所述基材膜(5)的带电量的绝对值为0.01kV以上且6kV以下。
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