[发明专利]一种等离子体约束组件及其所在的处理装置有效
| 申请号： | 201810614559.1 | 申请日： | 2018-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN110610841B | 公开（公告）日： | 2022-01-28 |
| 发明（设计）人： | 梁洁;涂乐义;王伟娜;李双亮;叶如彬 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 包姝晴 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种等离子体约束组件及其所在的处理装置，等离子体处理装置包括一反应腔，反应腔内设置一用于支撑基片的静电夹盘，等离子体约束组件位于静电夹盘和反应腔的侧壁之间，包括等离子体约束环与U型接地环；接地环包括接地屏蔽环，接地屏蔽环位于等离子体约束环与反应腔的侧壁之间；反应腔的侧壁上设有传片门，接地屏蔽环用于保护等离子体约束环与反应腔侧壁之间的电场不受传片门的影响。本发明U型接地环使等离子体约束环的电容值在极板间距调节过程中保持不变；不仅可确保极板间距调节刻蚀性能过程的一致性和稳定性，还能消除腔体传片门对刻蚀性能的不对称性因素，还能确保传片门附近等离子体约束的可靠性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 约束 组件 及其 所在 处理 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于等离子体处理装置的等离子体约束组件，所述等离子体处理装置包括一反应腔，所述反应腔内设置一用于支撑基片的静电夹盘，其特征在于，/n所述等离子体约束组件位于所述静电夹盘和所述反应腔的侧壁之间，所述反应腔的侧壁上设有传片门，所述等离子体约束组件能沿着反应腔的侧壁方向上下移动；/n所述等离子体约束组件包括等离子体约束环与接地环，所述接地环设有接地屏蔽环，所述接地屏蔽环位于所述等离子体约束环与所述反应腔的侧壁之间，使所述等离子体约束环被屏蔽在所述接地环中，以保护所述等离子体约束环与所述反应腔的侧壁之间的电场不受传片门的影响。/n
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