[发明专利]基板处理装置

摘要

本发明涉及基板处理装置，目的在于进一步减少对曝光单元带来的振动，通过曝光单元良好地进行曝光。基板处理装置(U3)具有：设在设置面(E)上的减振台(131)；设在减振台(131)上且对供给的基板(P)进行曝光处理的曝光单元(121)；和设在设置面(E)上且与曝光单元(121)以非接触的独立状态设置、并作为对曝光单元(121)进行处理的处理单元的位置调整单元(120)及驱动单元(122)。

主权项

1.一种基板处理装置，对沿长边方向搬送的具有挠性的长尺寸片材基板进行图案曝光，其特征在于，所述基板处理装置具有：曝光单元，其具有旋转滚筒和图案形成部，所述旋转滚筒以相对于旋转轴为固定半径的外周面将所述片材基板的一部分支承为圆筒面状，并且所述旋转滚筒绕所述旋转轴而旋转，所述片材基板是在被多个辊赋予了规定张力的状态下而被沿长边方向输送的片材基板；所述图案形成部对由所述旋转滚筒支承的所述片材基板进行图案曝光；减振台，其载置有所述曝光单元地设置在地面上，以抑制来自所设置的所述地面的振动传递到所述曝光单元；位置调整单元，在所述片状基板的搬送方向上所述曝光单元的上游侧，所述位置调整单元设置于所述地面上，基于来自第1基板检测部的变化信息而通过多个辊以将所述片状基板的宽度方向的位置保持于目标位置的方式进行调整，所述第1基板检测部对朝向所述曝光单元搬出的所述片状基板在正交于所述长边方向的宽度方向上的位置变化进行计测；相对位置检测部，设定以与所述地面垂直的方向为Z轴、以与该Z轴正交且为所述片状基板的宽度方向的方向为Y轴、以与所述Z轴和所述Y轴分别正交的方向为X轴的正交坐标系时，所述相对位置检测部对所述曝光单元和所述位置调整单元在YZ平面和XZ平面的各个平面上的相对的位置变化进行计测；和控制部，其使用在所述相对位置检测部计测出的位置变化的信息，控制所述位置调整单元，以使得将搬入所述曝光单元后的所述片状基板的宽度方向的位置相对于所述图案形成部而保持于规定位置。