[发明专利]基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理装置，对沿长边方向搬送的具有挠性的长尺寸片材基板进行图案曝光，其特征在于，所述基板处理装置具有：

曝光单元，其具有旋转滚筒和图案形成部，所述旋转滚筒以相对于旋转轴为固定半径的外周面将所述片材基板在长边方向支承为圆筒面状，并且所述旋转滚筒绕所述旋转轴旋转而沿长边方向搬送所述片材基板，所述图案形成部对在利用调整辊和张力辊赋予了规定张力的状态下被支承于所述旋转滚筒的外周面的所述片材基板进行图案曝光，所述调整辊和张力辊在所述片材基板的搬送方向上配置于所述旋转滚筒的上游侧；

减振台，其载置有所述曝光单元地设置在地面上，以抑制来自所设置的所述地面的振动传递到所述曝光单元；

位置调整单元，在所述片材基板的搬送方向上所述曝光单元的上游侧，所述位置调整单元设置于所述地面上，基于来自第1基板检测部的变化信息而通过所述调整辊以将所述片材基板的宽度方向的位置保持于目标位置的方式进行调整，所述第1基板检测部对朝向所述曝光单元搬出的所述片材基板在正交于所述长边方向的宽度方向上的位置变化进行计测；

相对位置检测部，设定以与所述地面垂直的方向为Z轴、以与该Z轴正交且为所述片材基板的宽度方向的方向为Y轴、以与所述Z轴和所述Y轴分别正交的方向为X轴的正交坐标系时，所述相对位置检测部对所述曝光单元和所述位置调整单元在YZ平面和XZ平面的各个平面上的相对的位置变化进行计测；和

控制装置，其使用在所述相对位置检测部计测出的位置变化的信息，控制所述位置调整单元，以使得将搬入所述曝光单元后的所述片材基板的宽度方向的位置相对于所述图案形成部而保持于规定位置。

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述相对位置检测部具有第1检测部和第2检测部，所述第1检测部对所述曝光单元和所述位置调整单元在所述YZ平面上的相对的位置变化进行检测，所述第2检测部对所述曝光单元和所述位置调整单元在所述XZ平面上的相对的位置变化进行检测，

基于来自所述第1检测部和所述第2检测部各自的检测信息，对所述曝光单元和所述位置调整单元的三维的相对位置变化进行计测。

3.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

所述曝光单元具有第2基板检测部，所述第2基板检测部检测将要搬送到所述旋转滚筒之前的所述片材基板在宽度方向上相对于所述旋转滚筒的位置是否相对于目标位置发生了变化，

所述控制装置还使用由所述第2基板检测部检测到的变化信息来控制所述位置调整单元。

4.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

在所述片材基板的宽度方向的两端部侧，沿着长边方向以固定间隔形成有多个对准标记，

所述曝光单元具有以检测所述对准标记的方式配置的多个对准显微镜，所述对准标记形成在由所述旋转滚筒的外周面支承的所述片材基板的部分上，

所述控制装置还使用由所述多个对准显微镜检测出的所述对准标记的位置信息来控制所述位置调整单元。

5.如权利要求1~4中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，

所述调整辊和所述张力辊分别以使搬送来的所述片材基板的搬送路径折曲的方式配置在所述旋转滚筒的上游侧，

所述控制装置基于来自所述第1基板检测部的变化信息进行控制，以使所述调整辊的旋转轴或所述张力辊的旋转轴从与所述旋转滚筒的旋转轴平行的状态稍微倾斜。