[发明专利]一种富10

摘要

本发明提供一种富10B碳化硼溅射靶材及其制备方法与应用。该溅射靶材由以下质量百分比的原料制成：富10B碳化硼粉90～98％，富10B的硼粉和碳粉的混合粉2～10％，各组分质量百分比之和为100％；所述混合粉中富10B的硼粉和碳粉的摩尔比为1‑12:1；制备方法如下：将富10B碳化硼粉、富10B的硼粉和碳粉的混合粉混合，加入醇溶剂，球磨；然后经干燥、破碎、过筛，放电等离子烧结，超声洗涤、干燥即得。本发明制备的碳化硼溅射靶材具有高纯度、高致密度、成分与组织结构均匀、晶粒尺寸细小等特点；本发明的方法工艺相对简单，成本较低，所得材料可以作为在玻璃、金属、塑料等表面溅射薄膜用的靶材。

主权项

1.一种富10B碳化硼溅射靶材，其特征在于，由以下质量百分比的原料制成：富10B碳化硼粉90～98％，富10B的硼粉和碳粉的混合粉2～10％，各组分质量百分比之和为100％；所述混合粉中富10B的硼粉和碳粉的摩尔比为1‑12:1。