[发明专利]一种富10

权利要求书

1.一种富¹⁰B碳化硼溅射靶材，其特征在于，由以下质量百分比的原料制成：富¹⁰B碳化硼粉92~98%，富¹⁰B的硼粉和碳粉的混合粉2~8%，各组分质量百分比之和为100%；所述混合粉中富¹⁰B的硼粉和碳粉的摩尔比为4:1；所述富¹⁰B碳化硼粉D₅₀为0.5-5 μm，纯度＞99.9%， ¹⁰B丰度为60-95%；所述富¹⁰B的硼粉D₅₀为0.5-4.0 μm，纯度＞99.9%，¹⁰B丰度为60-96%；所述碳粉D₅₀为0.5-4.0 μm，纯度＞99.9%；

所述的富¹⁰B碳化硼溅射靶材的制备方法，包括步骤：

（1）将富¹⁰B碳化硼粉、富¹⁰B的硼粉和碳粉的混合粉混合，得混合料；加入醇溶剂，球磨10~30分钟；然后经干燥、破碎、过筛，得造粒粉；

（2）将步骤（1）得到的造粒粉于1700-2000℃、30-70Mpa下，真空或保护气体条件下，放电等离子烧结5-30分钟，得烧结体；经超声洗涤、干燥即得富¹⁰B碳化硼溅射靶材。

2.根据权利要求1所述的富¹⁰B碳化硼溅射靶材，其特征在于，步骤（1）中，包括以下条件中的一项或多项：

a、所述醇溶剂为无水甲醇；

b、所述混合料与醇溶剂的质量比为1:（2~5）；

c、所述球磨是于碳化硼陶瓷球磨罐中，以碳化硼陶瓷为磨球进行的；

d、所述干燥是于40-50℃下，真空或惰性气体条件下进行干燥；

e、所述过筛为过40或60目的标准筛。

3.根据权利要求1所述的富¹⁰B碳化硼溅射靶材，其特征在于，步骤（2）中，包括以下条件中的一项或多项：

a、所述放电等离子烧结是于石墨坩埚内进行，并将造粒粉压实；所述石墨坩埚内表面涂覆有氮化硼层碳；

b、所述放电等离子烧结温度为1750-1950℃，压力为40-60MPa，放电等离子烧结7-20分钟；

c、所得到的烧结体经磨去表面粘附的氮化硼、无水甲醇超声洗涤、真空干燥得富¹⁰B碳化硼溅射靶材。

4.如权利要求1-3任一项所述的富¹⁰B碳化硼溅射靶材作为溅射薄膜用的靶材应用于玻璃、金属、塑料表面。