[发明专利]基于缺陷性质和多尺度模拟的晶界结构搜索方法有效

专利信息
申请号: 201810562033.3 申请日: 2018-06-04
公开(公告)号: CN108959709B 公开(公告)日: 2022-05-03
发明(设计)人: 李祥艳;郝丛宇;许依春;张艳革;尤玉伟;孔祥山;刘伟;吴学邦;刘长松;方前锋;王先平;张涛 申请(专利权)人: 中国科学院合肥物质科学研究院
主分类号: G06F30/20 分类号: G06F30/20
代理公司: 合肥中谷知识产权代理事务所(普通合伙) 34146 代理人: 洪玲
地址: 23000*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种基于缺陷性质和多尺度模拟的晶界结构搜索方法,属于核材料辐照损伤模拟技术领域,该方法结合缺陷能量学性质和多尺度模拟,通过考察晶界结构和能量与缺陷浓度关系,可给出辐照缺陷诱导的晶界结构变化过程。同现有的模拟方法相比,本方法考虑了缺陷的占据与演化过程,更具有物理意义。
搜索关键词: 基于 缺陷 性质 尺度 模拟 结构 搜索 方法
【主权项】:
1.一种基于缺陷性质和多尺度模拟的晶界结构搜索方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤S1:根据重位点阵理论建立初始晶界模型,并弛豫之;计算晶界附近格点缺陷形成能,并以最小缺陷形成能所处的位置确定缺陷最稳定占据位置;步骤S2:确定最小晶界结构的结构单元尺寸、原子坐标、缺陷占据坐标;步骤S3:设定平行晶界方向最小结构单元复制数;步骤S4:复制缺陷占据坐标,复制最小结构单元坐标,生成缺陷随机占据序列;步骤S5:对于其中某个占据序列,修改结构单元中原子坐标;步骤S6:设置平行晶界方向晶粒相对滑移步长、步数;步骤S7:对于某个滑移量,相对滑移晶粒;步骤S8:弛豫滑移后的晶界模型;步骤S9:计算晶界能密度,先判断是否已经达到最大滑移量,若未达到最大滑移量,则回到步骤S7重新设定滑移量,位移晶粒,若已经达到最大滑移量,则判断是否已遍历所有缺陷序列,若未遍历所有缺陷序列,则回到步骤S5重新设定占据序列,修改结构单元中原子坐标,若已遍历所有缺陷序列,则输出缺陷序列对应的缺陷比例、最小晶界能密度和晶界结构;步骤S10:判断是否已遍历结构单元复制数,是则结束,得到最小晶界能和对应的结构,否则回到步骤S3,重新设定平行晶界方向最小结构单元复制数。
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