[发明专利]一种真空溅射设备及溅射方法有效
| 申请号： | 201810559716.3 | 申请日： | 2018-06-02 |
| 公开（公告）号： | CN108611612B | 公开（公告）日： | 2020-08-28 |
| 发明（设计）人： | 盛健 | 申请（专利权）人： | 南通盛州电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 北京驰纳智财知识产权代理事务所(普通合伙) 11367 | 代理人： | 蒋路帆 |
| 地址： | 226600 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明披露了一种真空溅射设备及溅射方法，包括真空腔室、抽真空装置、用于传动基材的传动装置、靶材、供气系统和挡板机构，靶材安装于真空腔室内，靶材与设置在真空腔室外的电源电连接，在靶材的下方设置传动装置，基材缠绕于传动装置上，通过传动装置带动基材进入靶材下方，真空溅射设备上还安装有翻转机构，所述翻转机构安装在放卷辊和收卷棍两者的防护板与真空腔室之间，靶材的中心位置处设置平衡线圈，本发明的有益效果是：本发明的真空溅射设备可实现基材正反面在同一真空腔室进行溅射，并提高溅射的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空 溅射 设备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种真空溅射设备，包括真空腔室(1)、抽真空装置、用于传动基材(5)的传动装置、靶材(2)、供气系统和挡板机构，其特征在于：所述靶材(2)安装于真空腔室(1)内，靶材(2)与设置在真空腔室(1)外的电源电连接，在靶材(2)的下方设置传动装置，基材(5)缠绕于传动装置上，通过传动装置带动基材(5)进入靶材(2)下方。
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