[发明专利]一种石墨烯选取刻蚀的方法及装置在审
| 申请号： | 201810557452.8 | 申请日： | 2018-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN110548996A | 公开（公告）日： | 2019-12-10 |
| 发明（设计）人： | 关彦涛;解婧;屈芙蓉;李楠;赵丽莉;夏洋 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | B23K26/362 | 分类号： | B23K26/362;B23K26/064;B23K26/70;B23K101/40 |
| 代理公司： | 11302 北京华沛德权律师事务所 | 代理人： | 房德权 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种石墨烯选取刻蚀的方法及装置，涉及半导体技术领域，包括：设定所述激光的波长、功率和扫描路径；所述激光通过镜组阵列聚焦，形成激光聚焦光斑；用所述激光聚焦光斑扫描衬底样品表面预设区域，完全刻蚀掉衬底样品表面预设区域的石墨烯薄层，在所述石墨烯薄层表面形成图案。解决了现有技术中传统的涂胶、光刻、刻蚀等加工，会对其造成不可避免的伤害，导致影响石墨烯的性能的技术问题，实现了使得扫描范围内的石墨烯薄膜材料完全刻蚀，而不伤害石墨烯所在的衬底材料，起到图案化石墨烯的的技术效果。 | ||
| 搜索关键词： | 石墨烯 刻蚀 激光聚焦光斑 石墨烯薄层 样品表面 预设区域 衬底 激光 扫描 半导体技术领域 表面形成图案 石墨烯薄膜 衬底材料 技术效果 扫描路径 传统的 图案化 波长 伤害 光刻 镜组 涂胶 聚焦 加工 | ||
【主权项】：
1.一种石墨烯选取刻蚀的方法，其特征在于，所述方法包括：/n设定所述激光的波长、功率和扫描路径；/n所述激光通过镜组阵列聚焦，形成激光聚焦光斑；/n用所述激光聚焦光斑扫描衬底样品表面预设区域，完全刻蚀掉所述衬底样品表面预设区域的石墨烯薄层，在所述石墨烯薄层表面形成图案。/n
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