[发明专利]一种石墨烯选取刻蚀的方法及装置

权利要求书

1.一种石墨烯选取刻蚀的方法，其特征在于，所述方法包括：

设定所述激光的波长、功率和扫描路径；

所述激光通过镜组阵列聚焦，形成激光聚焦光斑；

用所述激光聚焦光斑扫描衬底样品表面预设区域，完全刻蚀掉所述衬底样品表面预设区域的石墨烯薄层，在所述石墨烯薄层表面形成图案。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述激光的波长为极紫外150nm至近红外1500nm。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述激光为脉冲激光，其中，所述激光的脉冲宽度为10^-8-10^-15s。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述激光聚焦光斑直径为5μm-6mm。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述石墨烯薄层的原子层数为1-10层。

6.一种激光选区刻蚀石墨烯的装置，其特征在于，所述装置包括：

激光光源，所述激光光源发射出单脉冲激光；

计算机数据采集、处理与控制系统，所述计算机数据采集、处理与控制系统与激光光源连接，用以设置所述激光光源的波长、功率和扫描路径参数；

镜组阵列，所述镜组阵列接收到所述激光光源发射的单脉冲激光，对所述单脉冲激光进行聚焦；

光学窗口法兰组件，所述光学窗口法兰组件接收聚焦后的所述单脉冲激光，扫描衬底样品表面预设区域的石墨烯薄层；

激光扫描腔体，所述激光扫描腔体内设置有放置衬底样品的载片平台；

其中，所述光学窗口法兰组件设置在所述激光扫描腔体上。

7.如权利要求6所述的装置，其特征在于，所述装置还包括：

进样通道，所述进样通道设置在所述激光扫描腔体内。

8.如权利要求6所述的装置，其特征在于，所述光学窗口法兰组件为100nm-1500nm特定波长范围内的法兰组件。

9.如权利要求6所述的装置，其特征在于，所述装置还包括：

动力装置，所述动力装置设置在所述激光扫描腔体上。

10.如权利要求6所述的装置，其特征在于，所述装置还包括：

真空规组件，所述真空规组件设置在所述激光扫描腔体上，按照预设真空条件对所述激光扫描腔体抽真空。