[发明专利]微电极阵列及其制备方法在审
申请号: | 201810521402.4 | 申请日: | 2018-05-28 |
公开(公告)号: | CN108751117A | 公开(公告)日: | 2018-11-06 |
发明(设计)人: | 张翊 | 申请(专利权)人: | 深圳市中科先见医疗科技有限公司 |
主分类号: | B81B3/00 | 分类号: | B81B3/00;B81C1/00 |
代理公司: | 北京律和信知识产权代理事务所(普通合伙) 11446 | 代理人: | 武玉琴;冷文燕 |
地址: | 518116 广东省深圳市龙岗区龙城街*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供一种微电极阵列,包括:第一绝缘衬底;位于第一绝缘衬底上的图案化的粘附层;位于所述粘附层上的金属层;和位于所述金属层上和所述粘附层上的第二绝缘衬底,其中所述金属层被部分地释放出以形成电极。本发明的实施方式提供了一种微电极阵列的制备方法,通过使用图形化的聚多巴胺作为粘附层,以增加金属层与绝缘层之间的粘附力,并以化学沉积的方式制备金属层,所得的金属层具有纳米多孔的结构,可改善电极的电化学性能,该方法操作简单,成本低廉,适合大规模工业化生产。 | ||
搜索关键词: | 金属层 粘附层 微电极阵列 衬底 绝缘 制备 电极 绝缘层 大规模工业化生产 电化学性能 化学沉积 聚多巴胺 纳米多孔 图案化 图形化 粘附 释放 | ||
【主权项】:
1.一种微电极阵列,包括:第一绝缘衬底;位于第一绝缘衬底上的图案化的粘附层;位于所述粘附层上的金属层;和位于所述第一绝缘衬底和所述金属层上的第二绝缘衬底,其中所述金属层被部分地释放出以形成电极。
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