[发明专利]用于钴应用的化学机械抛光浆料有效
| 申请号： | 201810516084.2 | 申请日： | 2018-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN108929633B | 公开（公告）日： | 2021-07-06 |
| 发明（设计）人： | 梁燕南;温立清;胡斌;李孝相;张书维;蔡林松;林大为 | 申请（专利权）人： | 富士胶片电子材料美国有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/304 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 顾晋伟;梁笑 |
| 地址： | 美国罗*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及用于钴应用的化学机械抛光浆料。一种对包含钴的表面或基材进行抛光的浆料。所述浆料进一步包含各自具有磷酸根基团、长链烷基或二者的阴离子和/或阳离子表面活性剂。所述浆料还包含腐蚀抑制剂、磨料、去除速率增强剂、溶剂、pH调节剂和螯合剂。所述浆料的pH优选为8或更高。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 应用 化学 机械抛光 浆料 | ||
【主权项】：
1.一种在钴基材上使用的抛光浆料浓缩物，包含：至少一种表面活性剂，所述至少一种表面活性剂选自阴离子表面活性剂、阳离子表面活性剂及其组合，至少一种唑，所述至少一种唑选自苯并三唑、苯并三唑衍生物及其组合；溶剂；去除速率增强剂；磨料；pH调节剂，所述pH调节剂为碱；和螯合剂。
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