[发明专利]用于钴应用的化学机械抛光浆料

权利要求书

1.一种在钴基材上使用的抛光浆料浓缩物，包含：

至少一种表面活性剂，所述至少一种表面活性剂选自阴离子表面活性剂、阳离子表面活性剂及其组合，

至少一种唑，所述至少一种唑选自苯并三唑、苯并三唑衍生物及其组合；

溶剂；

去除速率增强剂；

磨料；

pH调节剂，所述pH调节剂为碱；和

螯合剂；

其中所述阴离子表面活性剂存在，并且包含一个或更多个磷酸根基团，以及以下中的一者或更多者：具有六至二十四个碳的烷基链、多个环氧乙烷基团、或者具有六至二十四个碳的烷基链和多个环氧乙烷基团的组合，

其中由所述抛光浆料浓缩物稀释得到的使用点抛光浆料能够以比它抛光钴更快的速率抛光TEOS，TiN以及Ti。

2.根据权利要求1所述的浓缩物，其中基于所述浓缩物的总重量，所述表面活性剂以10ppm至2000ppm的量存在；

基于所述浓缩物的总重量，所述唑以20ppm至1％的量存在；

基于所述浓缩物的总重量，所述溶剂以50ppm至4％的量存在；

基于所述浓缩物的总重量，所述去除速率增强剂以0.02％至5％的量存在；

基于所述浓缩物的总重量，所述磨料以2％至24％的量存在；

基于所述浓缩物的总重量，所述pH调节剂以0.2％至20％的量存在；以及

基于所述浓缩物的总重量，所述螯合剂以0.10％至5％的量存在。

3.根据权利要求1所述的浓缩物，其中基于所述浓缩物的总重量，所述表面活性剂以15ppm至3000ppm的量存在；

基于所述浓缩物的总重量，所述唑以30ppm至1.5％的量存在；

基于所述浓缩物的总重量，所述溶剂以75ppm至6.0％的量存在；

基于所述浓缩物的总重量，所述去除速率增强剂以0.03％至7.5％的量存在；

基于所述浓缩物的总重量，所述磨料以3％至36％的量存在；

基于所述浓缩物的总重量，所述pH调节剂以0.3％至30％的量存在；以及

基于所述浓缩物的总重量，所述螯合剂以0.15％至7.5％的量存在。

4.一种在钴基材上使用的使用点抛光浆料，包含根据权利要求1所述的浓缩物、水、和氧化剂，使得

基于所述浆料的总重量，所述表面活性剂以5ppm至1000ppm的量存在；

基于所述浆料的总重量，所述唑以10ppm至0.5％的量存在；

基于所述浆料的总重量，所述溶剂以25ppm至2.0％的量存在；

基于所述浆料的总重量，所述去除速率增强剂以0.01％至2.5％的量存在；

基于所述浆料的总重量，所述磨料以1％至12％的量存在；

基于所述浆料的总重量，所述pH调节剂以0.1％至10％的量存在；

基于所述浆料的总重量，所述螯合剂以0.05％至2.5％的量存在；以及

基于所述POU浆料的总重量，所述氧化剂以500ppm至约5％的量存在；

其中所述浆料能够以比它抛光钴更快的速率抛光TEOS，TiN以及Ti。

5.根据权利要求4所述的浆料，其中所述表面活性剂为具有磷酸根基团和具有六至二十四个碳的烷基链的化合物。

6.根据权利要求4所述的浆料，其中所述唑选自：苯并三唑、腺嘌呤、苯并咪唑、噻苯咪唑、甲苯基三唑、1,2,3-三唑、1,2,4-三唑、1-羟基苯并三唑、2-甲基苯并噻唑、2-氨基苯并咪唑、2-氨基-5-乙基-1,3,4-噻二唑、3,5-二氨基-1,2,4-三唑、3-氨基-5-甲基吡唑、4-氨基-4H-1,2,4-三唑、5-甲基苯并三唑、5-氯苯并三唑、5-氨基四唑及其组合。

7.根据权利要求4所述的浆料，其中所述溶剂选自：乙醇、1-丙醇、2-丙醇、正丁醇、丙二醇、2-甲氧基乙醇、2-乙氧基乙醇、丙二醇丙醚、乙二醇及其任意组合。