[发明专利]一种半导体激光器有效

专利信息
申请号: 201810510712.6 申请日: 2018-05-24
公开(公告)号: CN108539578B 公开(公告)日: 2019-08-13
发明(设计)人: 车相辉;曹晨涛;赵润 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第十三研究所
主分类号: H01S5/20 分类号: H01S5/20;H01S5/34;H01S5/343
代理公司: 石家庄国为知识产权事务所 13120 代理人: 张二群
地址: 050051 *** 国省代码: 河北;13
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本申请适用于激光器技术领域,提供了一种半导体激光器,所述半导体激光器包括:衬底、在衬底上由下至上设有的缓冲层、N型限制层、下限制层、下波导层、多量子阱,上波导层、上限制层、腐蚀阻挡层、P型限制层和电极接触层,所述缓冲层和所述N型限制层之间设有至少两层扩展波导层,通过本申请可以降低垂直发散角的同时提高耦合效率。
搜索关键词: 半导体激光器 缓冲层 衬底 激光器技术领域 电极接触层 腐蚀阻挡层 多量子阱 上波导层 上限制层 下波导层 下限制层 耦合效率 波导层 发散角 两层 申请 垂直
【主权项】:
1.一种半导体激光器,包括:衬底、在衬底上由下至上设有的缓冲层、N型限制层、下限制层、下波导层、多量子阱,上波导层、上限制层、腐蚀阻挡层、P型限制层和电极接触层,其特征在于,所述缓冲层和所述N型限制层之间设有至少两层扩展波导层,所述缓冲层和所述N型限制层之间由下至上设有上扩展波导层和下扩展波导层,所述上扩展波导层和所述下扩展波导层之间设有用于拉大光场的隔离层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电子科技集团公司第十三研究所,未经中国电子科技集团公司第十三研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810510712.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top