[发明专利]一种晶圆湿法刻蚀系统

摘要

本发明属于湿法刻蚀技术领域，具体的说是一种晶圆湿法刻蚀系统，包括移动模块、抓取模块、一号反应槽、二号反应槽、三号反应槽和储料筒，反应仓内壁底表面固定安装有一号反应槽、二号反应槽和三号反应槽；移动模块固定安装在反应仓内壁的侧表面顶部；抓取模块安装在移动模块上，储料筒用于存放晶圆；抓取模块用于对储料筒进行抓取；储料筒从进料门输送至反应仓中；移动模块通过与抓取模块配合将储料筒中的晶圆，依次放入三号反应槽、二号反应槽和一号反应槽中刻蚀；最后储料筒中的晶圆通过出料门被取出；本发明主要用于对晶圆进行刻蚀,能够提高刻蚀液的使用效率，能够对晶圆进行批量化刻蚀，提高了刻蚀效率。

主权项

1.一种晶圆湿法刻蚀系统，包括反应仓(1)，反应仓(1)中设有进料门(11)和出料门(12)；其特征在于：还包括移动模块(2)、抓取模块(3)、一号反应槽(13)、二号反应槽(14)、三号反应槽(15)和储料筒(4)，所述反应仓(1)内壁底表面固定安装有一号反应槽(13)、二号反应槽(14)和三号反应槽(15)；所述移动模块(2)固定安装在反应仓(1)内壁的侧表面顶部；所述抓取模块(3)安装在移动模块(2)上，所述储料筒(4)用于存放晶圆(16)；抓取模块(3)用于对储料筒(4)进行抓取；所述一号反应槽(13)通过一号电磁阀(17)与二号反应槽(14)连接；所述二号反应槽(14)通过二号电磁阀(18)与三号反应槽(15)连接；所述三号反应槽(15)的内壁上设有三号喷头(51)、其用于将二号反应槽(14)中的刻蚀液喷射到三号反应槽(15)中的储料筒(4)上；所述二号反应槽(14)的内壁上设有二号喷头(52)、其用于将一号反应槽(13)中的刻蚀液喷射到二号反应槽(14)中的储料筒(4)上；所述储料筒(4)包括三号筒体(41)，一号支撑架(42)，夹持板(43)和储料板(44)；所述夹持板(43)通过一号支撑架(42)固定安装在三号筒体(41)的顶表面，夹持板(43)形状为圆环形，夹持板(43)用于配合抓取模块(3)使用；所述储料板(44)设于三号筒体(41)的内壁上，储料板(44)能够从三号筒体(41)内壁上拆卸；储料板(44)用于存放晶圆(16)；所述三号筒体(41)的表面设有三号开口(45)；三号开口(45)用于将刻蚀液输送至储料板(44)上；所述储料板(44)上设有四号通孔(46)和四号开口(47)；所述四号通孔(46)用于使刻蚀液能够穿过储料板(44)；所述四号开口(47)安装有夹持单元，夹持单元用于对晶圆(16)进行夹持；所述夹持单元包括多个夹持部件(48)。