[发明专利]一种晶圆湿法刻蚀系统有效

专利信息
申请号: 201810491385.4 申请日: 2018-05-21
公开(公告)号: CN108682639B 公开(公告)日: 2020-09-29
发明(设计)人: 陈涛;王康 申请(专利权)人: 江苏明芯微电子股份有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/677;H01L21/683
代理公司: 广州高炬知识产权代理有限公司 44376 代理人: 郑为光
地址: 226634 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 湿法 刻蚀 系统
【说明书】:

本发明属于湿法刻蚀技术领域,具体的说是一种晶圆湿法刻蚀系统,包括移动模块、抓取模块、一号反应槽、二号反应槽、三号反应槽和储料筒,反应仓内壁底表面固定安装有一号反应槽、二号反应槽和三号反应槽;移动模块固定安装在反应仓内壁的侧表面顶部;抓取模块安装在移动模块上,储料筒用于存放晶圆;抓取模块用于对储料筒进行抓取;储料筒从进料门输送至反应仓中;移动模块通过与抓取模块配合将储料筒中的晶圆,依次放入三号反应槽、二号反应槽和一号反应槽中刻蚀;最后储料筒中的晶圆通过出料门被取出;本发明主要用于对晶圆进行刻蚀,能够提高刻蚀液的使用效率,能够对晶圆进行批量化刻蚀,提高了刻蚀效率。

技术领域

本发明属于湿法刻蚀技术领域,具体的说是一种晶圆湿法刻蚀系统。

背景技术

半导体制造技术中经常会用到各种刻蚀工艺,其中湿法刻蚀工艺主要是采用反应液对刻蚀物进行去除的刻蚀技术,具体为通过反应液与刻蚀物进行化学反应,使刻蚀物部分脱离晶圆表面,这样在晶圆上得到了所需要的表面。但是,晶圆的批量化生产中需要消耗大量的刻蚀液,如果能够对刻蚀液的利用进行改进,则能够提高生产成本。

现有技术中也出现了一些湿法刻蚀装置的技术方案,如申请号为201420593668.7的一项中国专利公开了一种湿法刻蚀装置,所述装置至少包括:腐蚀槽以及至少两个过滤器;所述腐蚀槽与每个过滤器通过第一、第二管道连接;所述第一、第二管道上分别对应设有第一、第二阀门;所述第一阀门与所述过滤器之间设有与所述第一管道相通的进液管;所述第二阀门与所述过滤器之间设有与所述第二管道相通的出液管。该技术方案虽然能够延长腐蚀槽的使用寿命,但是,该技术方案不能提高刻蚀液的使用效率,造成了成本的浪费,同时,该方案不能实现批量化自动生产;使得该发明受到了限制。

发明内容

为了弥补现有技术的不足,本发明提出了一种晶圆湿法刻蚀系统,本发明主要用于对晶圆进行刻蚀,能够提高刻蚀液的使用效率,能够对晶圆进行批量化刻蚀;本发明通过一号反应槽、二号反应槽和三号反应槽配合来对晶圆进行分级刻蚀;通过移动模块、抓取模块和储料筒配合来对晶圆进行批量化刻蚀;提高了晶圆的刻蚀效率。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:本发明提出了一种晶圆湿法刻蚀系统,包括反应仓,反应仓中设有进料门和出料门;其中,反应仓不是本发明的创新之处,在此不作赘述。还包括移动模块、抓取模块、一号反应槽、二号反应槽、三号反应槽和储料筒,所述反应仓内壁底表面固定安装有一号反应槽、二号反应槽和三号反应槽;所述移动模块固定安装在反应仓内壁的侧表面顶部;所述抓取模块安装在移动模块上,所述储料筒用于存放晶圆;抓取模块用于对储料筒进行抓取;工作时,储料筒从进料门输送至反应仓中;移动模块通过与抓取模块配合将储料筒中的晶圆,依次放入三号反应槽、二号反应槽和一号反应槽中刻蚀;最后储料筒中的晶圆通过出料门被取出;

所述一号反应槽通过一号电磁阀与二号反应槽连接;所述二号反应槽通过二号电磁阀与三号反应槽连接;所述三号反应槽的内壁上设有三号喷头、其用于将二号反应槽中的刻蚀液喷射到三号反应槽中的储料筒上;所述二号反应槽的内壁上设有二号喷头、其用于将一号反应槽中的刻蚀液喷射到二号反应槽中的储料筒上;二号喷头和三号喷头用于对晶圆表面残留的杂质进行清理,同时,提高了刻蚀液的利用率;工作时,一号反应槽、二号反应槽和三号反应槽均装有相同纯度的刻蚀液,储料筒依次在三号反应槽、二号反应槽和一号反应槽中进行超声波刻蚀,其用于将晶圆表面的气泡和杂质抖除;当移动模块和抓取模块配合将储料筒提起的过程中;二号喷头和三号喷头分别对储料筒进行喷淋,用于对晶圆表面的杂质进行清理。

所述储料筒包括三号筒体,一号支撑架,夹持板和储料板;所述夹持板通过一号支撑架固定安装在三号筒体的顶表面,夹持板形状为圆环形,夹持板用于配合抓取模块使用;所述储料板设于三号筒体的内壁上,储料板能够从三号筒体内壁上拆卸;储料板用于存放晶圆;所述三号筒体的表面设有三号开口;三号开口用于将刻蚀液输送至储料板上;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏明芯微电子股份有限公司,未经江苏明芯微电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810491385.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top