[发明专利]一种整流二极管芯片在审
申请号: | 201810472958.9 | 申请日: | 2018-05-17 |
公开(公告)号: | CN108565293A | 公开(公告)日: | 2018-09-21 |
发明(设计)人: | 王民安;王日新;马霖;汪杏娟;郑春鸣 | 申请(专利权)人: | 安徽省祁门县黄山电器有限责任公司 |
主分类号: | H01L29/861 | 分类号: | H01L29/861;H01L21/329;H01L29/06 |
代理公司: | 深圳市百瑞专利商标事务所(普通合伙) 44240 | 代理人: | 杨大庆 |
地址: | 245000 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种整流二极管芯片,包括长基区N,设置在长基区N上层的P层和P+层,设置在长基区N下层的N+层;还设置有电压槽,所述电压槽从P+层向下延伸到长基区N内;所述二极管芯片的四周设置有N+截止墙,所述N+截止墙从N+层向上延伸至电压槽的底部。本发明通过设置N+层截止墙的结构,能够有效提高芯片的使用面积,减少原材料的损耗,降低了生产成本,同时,还可以提高了芯片的电参数,进而提高芯片的整体性能。可广泛应用于半导体功率器件技术领域。 | ||
搜索关键词: | 长基区 整流二极管芯片 芯片 截止 半导体功率器件 二极管芯片 向上延伸 向下延伸 电参数 下层 生产成本 上层 应用 | ||
【主权项】:
1.一种整流二极管芯片,包括长基区N,设置在长基区N上层的P层和P+层,设置在长基区N下层的N+层;还设置有电压槽,所述电压槽从P+层向下延伸到长基区N内;其特征在于:所述二极管芯片的四周设置有N+截止墙,所述N+截止墙从N+层向上延伸至电压槽的底部。
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