[发明专利]一种铝碳化硅材料的镀Ni方法在审
| 申请号: | 201810448222.8 | 申请日: | 2018-05-11 |
| 公开(公告)号: | CN108588691A | 公开(公告)日: | 2018-09-28 |
| 发明(设计)人: | 刘波波;何娟 | 申请(专利权)人: | 西安朗赛精密机械有限公司 |
| 主分类号: | C23C18/32 | 分类号: | C23C18/32;C23C14/18;C23C18/16;C23C18/18;C23C28/02 |
| 代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人: | 高博 |
| 地址: | 710061 陕西省西安市曲江新区雁塔*** | 国省代码: | 陕西;61 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明公开了一种铝碳化硅材料的镀Ni方法,采用过多层镀Ni,打底后采用物理气相沉积法镀膜,再次进行打底,打底前和打底后均进行清洗,然后采用化学镀镀膜,镀膜完成后进行烘烤热处理完成镀Ni。本发明工艺简单,操作方便,成本低,效率高,适用范围广,对环境无污染,可实现工业化生产,所得镀层光亮、平整、均匀、致密,通过光学显微镜观察,镀层无起泡、剥落和裂纹等现象。 | ||
| 搜索关键词: | 铝碳化硅 镀膜 光学显微镜观察 物理气相沉积法 致密 化学镀镀膜 环境无污染 热处理 起泡 镀层光亮 烘烤 镀层 剥落 清洗 平整 | ||
【主权项】:
1.一种铝碳化硅材料的镀Ni方法,其特征在于,采用过多层镀Ni方式,先将铝碳化硅基材(5)置于真空中采用物理气相沉积法在铝碳化硅基材(5)表面的铜打底层(4)上镀膜制备第二镍磷打底层(3),接着在第二镍磷打底层(3)上进行激活反应后以Ni‑P打底制备第一镍磷打底层(2),打底前和打底后均进行清洗,最后在第一镍磷打底层(2)表面采用化学镀完成镍磷可焊层(1),镀膜完成后进行烘烤热处理完成镀Ni。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安朗赛精密机械有限公司,未经西安朗赛精密机械有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810448222.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理





