[发明专利]滚筒交叉式凹面抛光机上盘系统在审
| 申请号： | 201810399571.5 | 申请日： | 2018-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN108608299A | 公开（公告）日： | 2018-10-02 |
| 发明（设计）人： | 戴瑜兴;杨佳葳;喻明清;龚涛 | 申请（专利权）人： | 湖南宇晶机器股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;B24B47/12;B24B47/20 |
| 代理公司： | 长沙明新专利代理事务所(普通合伙) 43222 | 代理人： | 徐新 |
| 地址： | 413001 湖南省益*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 滚筒交叉式凹面抛光机上盘系统，由2个以上滚筒抛光头装置和1个凸轮传动装置组成，所述2个以上滚筒抛光头装置均匀布置，分别与凸轮传动装置相连接，所有滚筒抛光头装置可实现自转和往复运动。本发明通过滚筒抛光头装置的自转和往复运动模拟3D玻璃的凹面轨迹，从而达到提高抛光精度的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 滚筒抛光 头装置 凹面 凸轮传动装置 上盘系统 交叉式 抛光机 滚筒 自转 均匀布置 抛光 | ||
【主权项】：
1.滚筒交叉式凹面抛光机上盘系统，其特征在于：由2个以上滚筒抛光头装置和1个凸轮传动装置组成，所述2个以上滚筒抛光头装置均匀布置，分别与凸轮传动装置相连接，所有滚筒抛光头装置可实现自转和往复运动。
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