[发明专利]一种垂直结构纳米阵列LED及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201810373123.8 申请日: 2018-04-24
公开(公告)号: CN108831902B 公开(公告)日: 2021-08-31
发明(设计)人: 李国强 申请(专利权)人: 河源市众拓光电科技有限公司
主分类号: H01L27/15 分类号: H01L27/15
代理公司: 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 代理人: 郭佳利;郭裕彬
地址: 517000 广东省河*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了垂直结构纳米阵列LED,包括在衬底上依次复合的底电极层、第一石墨烯层、伞状GaN纳米柱阵列层、P型GaN薄膜、AlxInyGa1‑x‑yN薄膜、第二石墨烯层和顶电极层;所述第一石墨烯层上复合有图形化隔离层;其中,x=0‑0.35,y=0‑0.07;所述伞状GaN纳米柱阵列层自核向壳包括依次复合的GaN纳米柱芯、n型GaN纳米内壳和In(Al)GaN纳米外壳。该垂直结构纳米阵列LED有效解决了外延生长受限的情况,大幅降低生产成本,光效高,性能高。
搜索关键词: 一种 垂直 结构 纳米 阵列 led 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种垂直结构纳米阵列LED,其特征在于,包括在衬底上依次复合的底电极层、第一石墨烯层、伞状GaN纳米柱阵列层、P型GaN薄膜、AlxInyGa1‑x‑yN薄膜、第二石墨烯层和顶电极层;所述第一石墨烯层上复合有图形化隔离层;其中,x=0‑0.35,y=0‑0.07;所述伞状GaN纳米柱阵列层自核向壳包括依次复合的GaN纳米柱芯、n型GaN纳米内壳和In(Al)GaN纳米外壳。
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