[发明专利]显影方法以及金属层的图形化处理方法在审
| 申请号： | 201810352995.6 | 申请日： | 2018-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN108646522A | 公开（公告）日： | 2018-10-12 |
| 发明（设计）人： | 易天华 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种显影方法，包括以下步骤：提供一基板，该基板上设置有经过曝光处理后的第一光阻层，所述第一光阻层具有已曝光区域以及未曝光区域；在该第一光阻层上均匀涂布显影液形成第一显影液层；第一次显影：所述第一显影液层与所述第一光阻层部分反应完成第一次显影，并形成位于基板上的第二光阻层、位于第二光阻层上的光阻/显影混浊层以及位于光阻/显影混合液层上的第二显影液层；第二次显影：刮除所述第二显影液层，并将已曝光区域以及未曝光区域上的光阻/显影混浊层进行混合，混合后的光阻/显影混浊层继续与所述第二光阻层进行反应以进行第二次显影；第二次显影完成后去除剩余的所述基板上残余的显影液。 | ||
| 搜索关键词： | 显影 光阻层 显影液 光阻 基板 混浊 未曝光区域 曝光区域 图形化处理 混合液层 均匀涂布 曝光处理 残余的 金属层 刮除 去除 | ||
【主权项】：
1.一种显影方法，其特征在于，包括以下步骤：提供一基板，该基板上设置有经过曝光处理后的第一光阻层，所述第一光阻层具有已曝光区域以及未曝光区域；在该第一光阻层上均匀涂布显影液形成第一显影液层；第一次显影：所述第一显影液层与所述第一光阻层部分反应完成第一次显影，并形成位于基板上的第二光阻层、位于第二光阻层上的光阻/显影混浊层以及位于光阻/显影混合液层上的第二显影液层；第二次显影：刮除所述第二显影液层，并将已曝光区域以及未曝光区域上的光阻/显影混浊层进行混合，混合后的光阻/显影混浊层继续与所述第二光阻层进行反应以进行第二次显影；第二次显影完成后去除剩余的所述基板上残余的显影液。
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