[发明专利]一种全氮生长直拉硅单晶的方法在审
申请号: | 201810332691.3 | 申请日: | 2018-04-13 |
公开(公告)号: | CN108411360A | 公开(公告)日: | 2018-08-17 |
发明(设计)人: | 张文霞;高树良;高润飞;张全顺;刘伟;武志军;裘孝顺;田野 | 申请(专利权)人: | 内蒙古中环光伏材料有限公司 |
主分类号: | C30B15/00 | 分类号: | C30B15/00;C30B29/06 |
代理公司: | 天津诺德知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 12213 | 代理人: | 栾志超 |
地址: | 010070 内蒙古自*** | 国省代码: | 内蒙古;15 |
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摘要: | 本发明提供一种全氮生长直拉硅单晶的方法,包括熔化、稳温、引晶、放肩、转肩、等径、收尾、等步骤,其特征在于,等径步骤分为三个阶段,其中,第二阶段为:等径200mm至等径2000mm,输入气体全部为氮气,晶体生长速度大于84mm/hr。本发明的有益效果是采用此生产方法制成的硅单晶制成的电池片,破片率降低2%,光衰低于1.7%、转化率大于21%,均符合行业标准,在降低生产成本的同时,提高氮气拉晶成晶率,满足使用需求,成本至少降低6.25%。 | ||
搜索关键词: | 等径 氮气 直拉硅单晶 全氮 熔化 晶体生长 输入气体 行业标准 电池片 硅单晶 破片率 生长 放肩 光衰 拉晶 引晶 收尾 生产 | ||
【主权项】:
1.一种全氮生长直拉硅单晶的方法,依次包括熔化、稳温、引晶、放肩等径和收尾步骤,其特征在于,等径步骤分为三个阶段,其中,第二阶段为:等径200mm至等径2000mm,输入气体全部为氮气,晶体生长速度大于84mm/hr。
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