[发明专利]平面内双平台相对位姿测量系统

摘要

本发明涉及一种平面内双平台相对位姿测量系统及方法，涉及激光测距技术领域。本发明的结构包括多个激光测距仪、特制的反射面，在测量时，3台激光测距仪同时工作，按照所测量的旋转角ω、横向距离、纵向距离的顺序依次调整第二平台的位置与姿态，能够实现在非接触的情况下第一平台与第二平台相对位姿的固定不变。本发明实现了平面内两个平台间相对位姿的高精度非接触式测量；具有环境适应能力好、抗干扰能力强、鲁棒性好、测量精度高等优势；原理、结构简单，改造成本低，适用于不同类型移动、非移动平台的相对位姿测量，且便于日常维护。

主权项

1.一种平面内双平台相对位姿测量系统，其特征在于，包括：第一激光测距仪(1)、第二激光测距仪(2)、第三激光测距仪(3)和反射面(4)，测量对象为第一平台(A)和第二平台(B)；其中，第一激光测距仪(1)、第二激光测距仪(2)、第三激光测距仪(3)位于第一平台(A)上，等间距放置，第三激光测距仪(3)位于第一激光测距仪(1)、第二激光测距仪(2)之间；反射面(4)位于第二平台(B)上；测量时，第一激光测距仪(1)、第二激光测距仪(2)、第三激光测距仪(3)三者同时工作，且第一激光测距仪(1)、第二激光测距仪(2)、第三激光测距仪(3)的测量射线处于同一平面内，此平面即为第一平台(A)与第二平台(B)需要测量相对位姿的平面；所述反射面(4)的颜色为白色，且具有一横截面为直角三角形的凹槽，测量时，第一激光测距仪(1)与第二激光测距仪(2)分别照射在反射面(4)的凹槽的两侧，第三激光测距仪(3)照射在凹槽内部。