[发明专利]平面内双平台相对位姿测量系统

权利要求书

1.一种平面内双平台相对位姿测量系统，其特征在于，包括：第一激光测距仪(1)、第二激光测距仪(2)、第三激光测距仪(3)和反射面(4)，测量对象为第一平台(A)和第二平台(B)；

其中，第一激光测距仪(1)、第二激光测距仪(2)、第三激光测距仪(3)位于第一平台(A)上，等间距放置，第三激光测距仪(3)位于第一激光测距仪(1)、第二激光测距仪(2)之间；反射面(4)位于第二平台(B)上；

测量时，第一激光测距仪(1)、第二激光测距仪(2)、第三激光测距仪(3)三者同时工作，且第一激光测距仪(1)、第二激光测距仪(2)、第三激光测距仪(3)的测量射线处于同一平面内，此平面即为第一平台(A)与第二平台(B)需要测量相对位姿的平面；

所述反射面(4)的颜色为白色，且具有一横截面为直角三角形的凹槽，测量时，第一激光测距仪(1)与第二激光测距仪(2)分别照射在反射面(4)的凹槽的两侧，第三激光测距仪(3)照射在凹槽内部。

2.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述第一平台(A)为长方体。

3.如权利要求2所述的系统，其特征在于，所述第二平台(B)为长方体。

4.如权利要求3所述的系统，其特征在于，所述第一平台(A)与第二平台(B)为尺寸相同的长方体。

5.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述第三激光测距仪(3)照射在凹槽的斜面。

6.如权利要求1至5中任一项所述的系统，其特征在于，所述第一平台(A)与第二平台(B)二者的相对距离不超过第一激光测距仪(1)、第二激光测距仪(2)、第三激光测距仪(3)所处位置的量程。