[发明专利]一种刻蚀设备及刻蚀方法

摘要

本发明公开了一种刻蚀设备，基板的上表面依次覆盖有金属层和具有镂空图案的掩膜层，所述刻蚀设备包括刻蚀槽、加压装置和第一喷淋装置，所述第一喷淋装置悬于所述刻蚀槽上方，用于透过所述掩膜层的镂空图案对所述金属层喷淋添加有带电粒子的刻蚀液；所述加压装置设于所述刻蚀槽内的所述基板旁，用于间歇性地对所述金属层施加电压，且所述金属层的电压极性与所述带电粒子的极性相反。本发明通过在刻蚀液中添加带电的高分子颜料或树脂胶体粒子，当施加电场时带电粒子会朝向电极运动，从而吸附在刻蚀出的凹槽侧壁，可以改善湿刻侧向刻蚀，实现了用湿法刻蚀刻出垂直taper角的目的。

主权项

1.一种刻蚀设备，其特征在于，基板(1)的上表面依次覆盖有金属层(2)和具有镂空图案的掩膜层(3)，所述刻蚀设备包括刻蚀槽(10)、加压装置(20)和第一喷淋装置(30)，所述第一喷淋装置(30)悬于所述刻蚀槽(10)上方，用于透过所述掩膜层(3)的镂空图案对所述金属层(2)喷淋添加有带电粒子的刻蚀液；所述加压装置(20)设于所述刻蚀槽(10)内的所述基板(1)旁，用于间歇性地对所述金属层(2)施加电压，且所述金属层(2)的电压极性与所述带电粒子的极性相反。