[发明专利]一种刻蚀设备及刻蚀方法

权利要求书

1.一种刻蚀设备，其特征在于，基板(1)的上表面依次覆盖有金属层(2)和具有镂空图案的掩膜层(3)，所述刻蚀设备包括刻蚀槽(10)、加压装置(20)和第一喷淋装置(30)，所述第一喷淋装置(30)悬于所述刻蚀槽(10)上方，用于透过所述掩膜层(3)的镂空图案对所述金属层(2)喷淋添加有带电粒子的刻蚀液；所述加压装置(20)设于所述刻蚀槽(10)内的所述基板(1)旁，用于间歇性地对所述金属层(2)施加电压，且所述金属层(2)的电压极性与所述带电粒子的极性相反。

2.根据权利要求1所述的刻蚀设备，其特征在于，所述带电粒子为高分子颜料或树脂胶体粒子。

3.根据权利要求1所述的刻蚀设备，其特征在于，所述加压装置(20)包括脉冲电源(21)、分别自所述脉冲电源(21)引出的两根电极悬臂(22)和分别固定在两根不同的所述电极悬臂(22)上的正极探针(23)和负极探针(24)，在刻蚀过程中，所述正极探针(23)或所述负极探针(24)与所述金属层(2)接触。

4.根据权利要求3所述的刻蚀设备，其特征在于，所述正极探针(23)和所述负极探针(24)在纵向上间隔设置，在刻蚀过程中，所述正极探针(23)和所述负极探针(24)的其中一个与所述金属层(2)上表面接触，另一个与所述基板(1)下表面接触；所述金属层(2)刻蚀完成后，所述正极探针(23)和所述负极探针(24)在纵向上相互远离，以分别与对应的所述金属层(2)和所述基板(1)间隔开。

5.根据权利要求4所述的刻蚀设备，其特征在于，所述正极探针(23)与所述金属层(2)上表面接触，所述带电粒子为氢氧根负离子颜料或树脂；或者，所述负极探针(24)与所述金属层(2)上表面接触，所述带电粒子为氨基正离子颜料或树脂。

6.根据权利要求3-5任一所述的刻蚀设备，其特征在于，还包括设于所述刻蚀槽(10)内的第一传送装置(40)和第二传送装置(50)，所述第一传送装置(40)用于沿所述刻蚀槽(10)的长度方向搬运所述基板(1)，所述第二传送装置(50)用于沿着或背向所述基板(1)的搬运方向传输所述正极探针(23)和所述负极探针(24)。

7.一种刻蚀方法，其特征在于，包括：

朝刻蚀液中添加带电粒子；

自具有图案的掩膜层注入刻蚀液，对掩膜层底部的金属层进行初步刻蚀；

对金属层施加电压形成带电粒子的电泳现象，使带电粒子聚集并吸附在金属层上形成的每个凹槽的侧壁和底部；

对金属层施加电压一段时间后，撤去金属层施加的电压，并朝每个所述凹槽内喷淋刻蚀液，刻蚀液冲击金属层的各凹槽，凹槽底面的带电粒子被冲走、剥落，凹槽侧面的带电粒子仍保持吸附状态；

撤去金属层施加的电压一段时间后，再次重新对金属层施加电压一段时间，并重复此过程直至所述金属层刻蚀完成。

8.根据权利要求7所述的刻蚀方法，其特征在于，所述带电粒子为高分子颜料或树脂胶体粒子。

9.根据权利要求7所述的刻蚀方法，其特征在于，在刻蚀过程中，脉冲电源的正极探针或负极探针与所述金属层电接触；所述金属层刻蚀完成后，所述正极探针或所述负极探针与所述金属层断开连接。

10.根据权利要求9所述的刻蚀方法，其特征在于，还包括：在刻蚀过程中，在刻蚀槽内传输所述金属层，所述正极探针和所述负极探针分别与所述金属层同步运动；所述金属层刻蚀完成后，所述正极探针和所述负极探针运动至初始位置。