[发明专利]配备有腔体单元的半导体工程装置在审

专利信息
申请号: 201810286512.7 申请日: 2018-03-30
公开(公告)号: CN108695204A 公开(公告)日: 2018-10-23
发明(设计)人: 徐基源 申请(专利权)人: 技术发现者联合有限公司;徐基源
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 丁文蕴;李平
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明的半导体工程装置包括:腔体单元,配备有生成等离子体的内部空间;以及,卡盘单元,配置于上述内部空间,对通过上述等离子体进行加工的基板进行支撑;其中,上述腔体单元包括可拆卸的第1腔体部以及第2腔体部,当上述第1腔体部与上述第2腔体部相互结合时形成生成上述等离子体的上述内部空间,当上述第1腔体部与上述第2腔体部相互分离时能够使上述卡盘单元裸露在外部。
搜索关键词: 腔体部 等离子体 腔体单元 工程装置 卡盘单元 半导体 可拆卸的 配备 基板 裸露 外部 配置 支撑 加工
【主权项】:
1.一种半导体工程装置,包括:卡盘单元,用于安置基板;以及腔体单元,用于收容上述卡盘单元,且形成有用于对上述基板进行加工的内部空间;其中,上述腔体单元以分割面为基准被分割成第1腔体部以及第2腔体部,当上述第1腔体部以及上述第2腔体部在上述分割面上相互紧贴时对上述腔体单元的内部空间进行密封,而当上述第1腔体部以及上述第2腔体部相互分离时使上述腔体单元的内部空间以及上述卡盘单元外露。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于技术发现者联合有限公司;徐基源,未经技术发现者联合有限公司;徐基源许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810286512.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top