[发明专利]一种平衡水溶肥栽培黄瓜的施肥方法

摘要

本发明提供一种平衡水溶肥栽培黄瓜的施肥方法，其不同之处在于，所述平衡水溶肥含氮源：18~22，磷（P₂O₅）：18~22，钾（K₂O）:18~22，铁（Fe）:0.05~0.2,锰（Mn）：0.05~0.2，锌（Zn）:0.05~0.1,铜（Cu）:0.01~0.05,硼（B）:0.01~0.05以及钼（Mo）:0.01~0.05。本发明的有益效果在于，对黄瓜供水量及肥料量进行了精准控制，保证了黄瓜在各个生长时期所需的营养，促进了黄瓜更好的生长，使用滴灌施肥促进黄瓜对水分及营养物质更好的吸收，另外本发明在保证黄瓜生长营养的前提下，采用一种平衡水溶肥进行施肥，不需更换肥料，简化了施肥程序。

主权项

1.一种平衡水溶肥栽培黄瓜的施肥方法，其特征在于，所述平衡水溶肥含氮源：18~22，磷（P₂O₅）：18~22，钾（K₂O）:18~22，铁（Fe）: 0.05~0.2,锰（Mn）：0.05~0.2，锌（Zn）: 0.05~0.1,铜（Cu）: 0.01~0.05,硼（B）: 0.01~0.05以及钼（Mo）: 0.01~0.05。