[发明专利]一种平衡水溶肥栽培黄瓜的施肥方法

说明书

本发明提供一种平衡水溶肥栽培黄瓜的施肥方法，其不同之处在于，所述平衡水溶肥含氮源：18~22，磷（P₂O₅）：18~22，钾（K₂O）:18~22，铁（Fe）:0.05~0.2,锰（Mn）：0.05~0.2，锌（Zn）:0.05~0.1,铜（Cu）:0.01~0.05,硼（B）:0.01~0.05以及钼（Mo）:0.01~0.05。本发明的有益效果在于，对黄瓜供水量及肥料量进行了精准控制，保证了黄瓜在各个生长时期所需的营养，促进了黄瓜更好的生长，使用滴灌施肥促进黄瓜对水分及营养物质更好的吸收，另外本发明在保证黄瓜生长营养的前提下，采用一种平衡水溶肥进行施肥，不需更换肥料，简化了施肥程序。

技术领域

本发明属于农业灌溉施肥领域，具体涉及一种平衡水溶肥栽培黄瓜的施肥方法。

背景技术

黄瓜的营养价值非常高，含有丰富的维生素和矿物质，可以生食。熟食或腌渍，是广大群众喜欢的主要蔬菜泥之一，随着黄瓜种植面积的扩大，黄瓜的施肥也显得日益重要。

黄瓜不耐旱、耐盐能力差，喜肥但不耐肥。黄瓜属于浅根系植物，根系入土浅，主要分布在15～30厘米的表层土壤中。它的根系再生能力相对较弱，吸收能力相对较弱，对水分和肥料的需求都极为敏感。现有对黄瓜的施肥方法为大水漫灌，难以控制供水量和施肥量，不利于黄瓜的生长，因此对黄瓜实行精准的施肥方法，以保证黄瓜对于水、肥的吸收。

发明内容

针对现有技术无法对黄瓜供水量及施肥量进行精确控制的问题，本发明，提供了一种平衡水溶肥栽培黄瓜的施肥方法。

一种平衡水溶肥栽培黄瓜的施肥方法，其不同之处在于，所述平衡水溶肥含氮源：18～22，磷(P₂O₅)：18～22，钾(K₂O):18～22，铁(Fe):0.05～0.2,锰(Mn)：0.05～0.2，锌(Zn):0.05～0.1,铜(Cu):0.01～0.05,硼(B):0.01～0.05以及钼(Mo):0.01～0.05。

上述技术方案中，所述平衡水溶肥含氮源：19～21，磷(P₂O₅)：19～21，钾(K₂O):19～21，铁(Fe):0.08～0.15,锰(Mn)：0.05～0.18，锌(Zn):0.05～0.08,铜(Cu):0.01～0.05,硼(B):0.01-0.05以及钼(Mo):0.01～0.05。

上述技术方案中，所述平衡水溶肥含氮源：20，磷(P₂O₅)：20，钾(K₂O):20，铁(Fe):0.1,锰(Mn)：0.05，锌(Zn):0.05,铜(Cu):0.025,硼(B):0.025以及钼(Mo):0.01。

上述技术方案中，使用滴灌设施，在黄瓜生长的不同时期，采用不同的灌溉施肥方法：

所述平衡肥在定植-初花期使用，灌溉次数为1～3次，每次施肥量2～8kg/亩，间隔时间为10-15天；

所述平衡肥在初花期-结瓜期使用，灌溉次数为2～6次，每次施肥量2～7kg/亩，间隔时间为3-15天；

所述平衡肥在采收期使用，灌溉次数为2～6次，每次施肥量2～7kg/亩，间隔时间为3-15天；

所述平衡肥在连续采收期，灌溉次数为1～3次，每次施肥量2～7kg/亩，间隔时间为3-15天。

上述技术方案中，使用滴灌设施，在黄瓜生长的不同时期，采用不同的灌溉施肥方法：

所述平衡肥在定植-初花期使用，灌溉次数为1～3次，每次施肥量2～6kg/亩，间隔时间为10-15天；