[发明专利]用于金属膜厚测量的差分探头装置有效
| 申请号： | 201810270780.X | 申请日： | 2018-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN108489373B | 公开（公告）日： | 2020-06-16 |
| 发明（设计）人： | 王军星;郭振宇;赵德文;王同庆;沈攀;万明军;路新春 | 申请（专利权）人： | 清华大学;华海清科股份有限公司 |
| 主分类号： | G01B7/06 | 分类号： | G01B7/06 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 黄德海 |
| 地址： | 10008*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于金属膜厚测量的差分探头装置，包括：激励源，用于提供振荡源；差分探头，差分探头具有第一线圈通道和第二线圈通道，且对应包括第一线圈和第二线圈；采集模块，用于在探头正下方产生磁场，且在探头正下方的被测金属薄膜的表面产生感应磁场时，采集探头的等效阻抗；中央处理模块，用于使得第一线圈和第二线圈同时工作，并且根据等效阻抗得到线圈阻抗的变化值，以根据线圈阻抗的变化值得到被测金属薄膜的厚度。该装置可以通过非接触式进行金属膜厚的测量，从而消减共模量的干扰，提高测试的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 金属膜 测量 探头 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于金属膜厚测量的差分探头装置，其特征在于，包括：激励源，用于提供振荡源；差分探头，所述差分探头具有第一线圈通道和第二线圈通道，且对应包括第一线圈和第二线圈；采集模块，用于在探头正下方产生磁场，且在所述探头正下方的被测金属薄膜的表面产生感应磁场时，采集所述探头的等效阻抗；以及中央处理模块，用于使得所述第一线圈和所述第二线圈同时工作，并且根据所述等效阻抗得到线圈阻抗的变化值，以根据所述线圈阻抗的变化值得到所述被测金属薄膜的厚度。
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