[发明专利]一种利用光学谐振腔增强磁光克尔效应的方法在审
| 申请号： | 201810251320.2 | 申请日： | 2018-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN108535893A | 公开（公告）日： | 2018-09-14 |
| 发明（设计）人： | 宋玉军;张伟伟;赵翠翠;韩泽欣 | 申请（专利权）人： | 北京科技大学 |
| 主分类号： | G02F1/09 | 分类号： | G02F1/09;H01L21/02 |
| 代理公司： | 北京市广友专利事务所有限责任公司 11237 | 代理人： | 张仲波 |
| 地址： | 100083*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种利用光学谐振腔结构增强磁光克尔效应的方法，属于纳米加工制备技术领域。该方法首先选取洁净的平整薄片为衬底；然后利用磁控溅射、热蒸镀、分子束外延(MBE)、金属有机气相化学沉积(MOCVD)、原子层沉积(ALD)和旋涂方法中的一种或几种在备好的衬底上依次构筑高反射率薄膜、高透射率薄膜、磁性薄膜、高透射率薄膜或者依次为高反射率薄膜、高透射率薄膜、磁性薄膜，最后得到可以明显增强磁性薄膜层磁光克尔信号的多层复合纳米结构。该方法通过单纯的制备光学谐振腔达到控制磁光克尔信号,操作过程简单易行。 | ||
| 搜索关键词： | 磁光 光学谐振腔 高透射率 薄膜 高反射率薄膜 磁性薄膜 克尔信号 衬底 制备技术领域 磁性薄膜层 分子束外延 原子层沉积 操作过程 磁控溅射 多层复合 化学沉积 结构增强 纳米加工 纳米结构 平整薄片 热蒸镀 有机气 旋涂 制备 洁净 金属 构筑 | ||
【主权项】：
1.一种利用光学谐振腔增强磁光克尔效应的方法，其特征在于利用高透射率的薄膜构建单层或多层法布里‑珀罗光学谐振腔实现对磁性薄膜磁光性质的调控，具体制备过程为：(1)选取表面平整的薄片作为衬底，衬底在使用前根据选取的衬底属性选择合适的溶液进行超声清洗，去除衬底表面的杂质；(2)利用磁控溅射、热蒸镀、分子束外延(MBE)、金属有机气相化学沉积(MOCVD)、原子层沉积(ALD)和旋涂方法中的一种或几种在备好的衬底上依次构筑高反射率薄膜、高透射率薄膜、磁性薄膜、高透射率薄膜或者依次为高反射率薄膜、高透射率薄膜、磁性薄膜。
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