[发明专利]一种利用光学谐振腔增强磁光克尔效应的方法

权利要求书

1.一种利用光学谐振腔增强磁光克尔效应的方法，其特征在于利用高透射率的薄膜构建单层或多层法布里-珀罗光学谐振腔实现对磁性薄膜磁光性质的调控，具体制备过程为：

(1)选取表面平整的薄片作为衬底，衬底在使用前根据选取的衬底属性选择合适的溶液进行超声清洗，去除衬底表面的杂质；

(2)利用磁控溅射、热蒸镀、分子束外延(MBE)、金属有机气相化学沉积(MOCVD)、原子层沉积(ALD)和旋涂方法中的一种或几种在备好的衬底上依次构筑高反射率薄膜、高透射率薄膜、磁性薄膜、高透射率薄膜或者依次为高反射率薄膜、高透射率薄膜、磁性薄膜。

2.根据权利要求1所述的一种利用光学谐振腔效应增强磁光克尔效应的方法其特征在于选用的衬底为表面平整且洁净的普通玻璃片、石英片、蓝宝石片、硅片和聚合物片。

3.根据权利要求1所述利用光学谐振腔效应增强磁光克尔效应的方法，其特征在于所述溶液为乙醇、丙酮、去离子水中的一种或者几种。

4.根据权利要求1所述利用光学谐振腔效应增强磁光克尔效应的方法，其特征在于所述高反射率薄膜为银，铝、铬、高透射率薄膜为氧化铟锡(ITO)、二氧化铪、透明聚合物、磁性层。

5.根据权利要求1所述利用光学谐振腔效应增强磁光克尔效应的方法，其特征在于薄膜的制备方法可以为磁控溅射、热蒸镀、分子束外延、原子层沉积和旋涂中的一种或几种。