[发明专利]电感耦合等离子体产生装置及半导体加工设备有效
| 申请号： | 201810235157.0 | 申请日： | 2018-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN110299276B | 公开（公告）日： | 2022-11-25 |
| 发明（设计）人： | 郭士选;韦刚;王炳元;苏恒毅 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 | 代理人： | 施敬勃 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种电感耦合等离子体产生装置，包括：电感线圈；电感线圈的第一端接地，电感线圈的第二端接射频电源；电感线圈的第一端沿远离介质窗的第一方向螺旋缠绕至第二端，且电感线圈在缠绕过程中沿与第一方向垂直的第二方向的尺寸变化，来提高电感线圈和介质窗之间的平均距离。本发明还提供一种等离子体产生装置，可以降低介质窗被刻蚀的程度，降低对腔室的颗粒污染。 | ||
| 搜索关键词： | 电感 耦合 等离子体 产生 装置 半导体 加工 设备 | ||
【主权项】：
1.一种电感耦合等离子体产生装置，其特征在于，包括：电感线圈；所述电感线圈的第一端接地，所述电感线圈的第二端接射频电源；所述电感线圈的第一端沿远离介质窗的第一方向螺旋缠绕至第二端，且电感线圈在缠绕过程中沿与第一方向垂直的第二方向的尺寸变化，来提高所述电感线圈和所述介质窗之间的平均距离。
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