[发明专利]外延鳍状结构的制作方法有效

专利信息
申请号: 201810234864.8 申请日: 2018-03-21
公开(公告)号: CN110299286B 公开(公告)日: 2022-06-03
发明(设计)人: 谢柏光;曾冠豪;林毓翔;蔡世鸿;曾于庭 申请(专利权)人: 联华电子股份有限公司
主分类号: H01L21/336 分类号: H01L21/336;H01L21/3065;H01L21/3105;H01L21/311
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陈小雯
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明公开一种外延鳍状结构的制作方法,其包括下列步骤。提供基底,并于基底中形成凹槽。在基底上形成外延层。外延层部分形成于凹槽内且部分形成于凹槽之外。外延层具有一凹陷形成于外延层的上表面上,且凹陷于基底的厚度方向上对应凹槽。在外延层上共形地形成氮化物层,并于氮化物层上形成氧化物层。进行第一平坦化制作工艺,用以移除部分的氧化物层。第一平坦化制作工艺停止在氮化物层上。对位于凹槽内的外延层进行图案化,用以形成至少一外延鳍状结构。
搜索关键词: 外延 结构 制作方法
【主权项】:
1.一种外延鳍状结构的制作方法,其特征在于,包括:提供一基底;在该基底中形成一凹槽;在该基底上形成一外延层,其中该外延层部分形成于该凹槽内且部分形成于该凹槽之外,该外延层具有一凹陷形成于该外延层的上表面上,且该凹陷于该基底的厚度方向上对应该凹槽;在该外延层上共形地形成一氮化物层;在该氮化物层上形成一氧化物层;进行一第一平坦化制作工艺,用以移除部分的该氧化物层,其中该第一平坦化制作工艺停止在该氮化物层上;以及对位于该凹槽内的该外延层进行图案化,用以形成至少一外延鳍状结构。
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