[发明专利]配向膜的制造方法和显示面板在审
| 申请号： | 201810227938.5 | 申请日： | 2018-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN108445677A | 公开（公告）日： | 2018-08-24 |
| 发明（设计）人： | 张俊伟;王洋;李官正;何成勇;李金祥 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 董天宝;于宝庆 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种配向膜的制造方法和显示面板，配向膜的制造方法包括：在基板上形成光敏型的聚酰亚胺层；利用掩模板对所述聚酰亚胺层进行曝光处理；以及对曝光处理后的所述聚酰亚胺层进行显影处理，得到配向膜。与现有工艺条件相比，通过本申请制得的配向膜的图形化精度可达到微米级，足以满足现有TFT‑LCD面板窄边框的需求，同时由于聚酰亚胺是整体涂覆后才进行图形化处理的，其膜厚均一性更好，不会对边缘显示画面品质造成影响。 | ||
| 搜索关键词： | 配向膜 聚酰亚胺层 曝光处理 显示面板 制造 膜厚均一性 图形化处理 边缘显示 工艺条件 画面品质 聚酰亚胺 显影处理 整体涂覆 图形化 微米级 掩模板 窄边框 光敏 基板 申请 | ||
【主权项】：
1.一种配向膜的制造方法，其特征在于，包括：在基板上形成光敏型的聚酰亚胺层；利用掩模板对所述聚酰亚胺层进行曝光处理；以及对曝光处理后的所述聚酰亚胺层进行显影处理，得到配向膜。
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