[发明专利]密封装置在审
| 申请号： | 201810223755.6 | 申请日： | 2018-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN108626401A | 公开（公告）日： | 2018-10-09 |
| 发明（设计）人： | 清水阳平 | 申请（专利权）人： | 株式会社捷太格特 |
| 主分类号： | F16J15/3208 | 分类号： | F16J15/3208;F16J15/3296 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 黄刚;车文 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 密封装置(10)包括：导电构件(31)，沿密封唇(24)的周向方向与密封唇(24)成一体，且被构造成使得对导电构件(31)施加电压；和基准构件，相对于导电构件(31)以预定间隔设置。检查密封唇(24)的变形程度，使得由检测单元(50)检测与在导电构件(31)和基准构件之间的间隔的变化相关联的导电构件(31)的电感(L)的变化。 | ||
| 搜索关键词： | 导电构件 密封唇 基准构件 电感 施加电压 预定间隔 检测 变形 关联 检查 | ||
【主权项】：
1.一种密封装置，所述密封装置被设置在外部构件的内周表面的径向内方，所述密封装置的特征在于包括：附接部(12)，所述附接部(12)具有环形形状且被附接到所述外部构件；密封唇(24)，所述密封唇(24)具有环形形状，所述密封唇(24)被固定到所述附接部(12)，并且所述密封唇(24)在所述密封唇(24)的内周部分中具有密封表面(23a)，所述密封表面(23a)与被设置在所述外部构件的所述内周表面的径向内方的轴(5)接触；导电构件(31)，所述导电构件(31)沿所述密封唇(24)的周向方向与所述密封唇(24)成一体，所述导电构件(31)被构造成使得对所述导电构件(31)施加电压；基准构件，所述基准构件被放置成使得在所述导电构件(31)与所述基准构件之间设置预定间隔；和检测单元(50)，其中所述检测单元(50)检测所述导电构件(31)的电感(L)的变化，所述导电构件(31)的所述电感(L)的变化与在所述导电构件(31)和所述基准构件之间的所述间隔的变化相关联。
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