[发明专利]掩膜版及其制备方法有效
| 申请号： | 201810174125.4 | 申请日： | 2018-03-02 |
| 公开（公告）号： | CN108411248B | 公开（公告）日： | 2020-04-03 |
| 发明（设计）人： | 杨忠英 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 柴亮;张天舒 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种掩膜版及其制备方法，属于掩膜版技术领域，其可至少部分解决现有的精细金属掩膜版中容易产生褶皱的问题。本发明的掩膜版包括相邻的图案区与封闭区，所述图案区中设有周期分布的开口和阻挡部，所述封闭区中具有衬底，所述封闭区靠近图案区的边缘部分为过渡子区，其余为中心子区；在从与图案区相邻的边界指向中心子区的方向上，过渡子区中衬底的厚度逐渐增大；中心子区中各处衬底的厚度相同。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜版 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜版，包括相邻的图案区与封闭区，所述图案区中设有周期分布的开口和阻挡部，所述封闭区中具有衬底，其特征在于，所述封闭区靠近图案区的边缘部分为过渡子区，其余为中心子区；在从与图案区相邻的边界指向中心子区的方向上，过渡子区中衬底的厚度逐渐增大；中心子区中各处衬底的厚度相同。
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