[发明专利]掩膜版及其制备方法

说明书

本发明提供一种掩膜版及其制备方法，属于掩膜版技术领域，其可至少部分解决现有的精细金属掩膜版中容易产生褶皱的问题。本发明的掩膜版包括相邻的图案区与封闭区，所述图案区中设有周期分布的开口和阻挡部，所述封闭区中具有衬底，所述封闭区靠近图案区的边缘部分为过渡子区，其余为中心子区；在从与图案区相邻的边界指向中心子区的方向上，过渡子区中衬底的厚度逐渐增大；中心子区中各处衬底的厚度相同。

技术领域

本发明属于掩膜版技术领域，具体涉及一种掩膜版及其制备方法。

背景技术

显示基板(如有机发光二极管显示基板)中的许多结构(如EL发光膜)可通过使用精细金属掩膜版(FMM,Fine Metal Mask)的蒸镀工艺形成。如图1所示，精细金属掩膜版设有周期分布的开口1和阻挡部2，以使蒸镀材料仅能通过开口1沉积在所需位置(如像素中)，而其余位置的蒸镀材料则被阻挡部2阻挡。

部分显示基板的显示区(AA区)是非矩形的异形结构，即在矩形区域中具有无像素的非显示区(如对应话筒、摄像头的区域)。如图1所示，与这样的显示基板对应的精细金属掩膜版也分为具有开口1的图案区91和无开口的封闭区92。

如图2所示，精细金属掩膜版的图案区91中有周期性分布的开口1，封闭区92的衬底3中则无开口，故在二者边界两侧，精细金属掩膜版的结构、应力分布等相差很大。又由于精细金属掩膜一般厚度较薄，强度较低，故在其张网、磁力吸附等过程中，以上边界处容易产生褶皱，使蒸镀材料的沉积位置不准确，引起混色等问题，降低产品良率。

发明内容

本发明至少部分解决现有的精细金属掩膜版中容易产生褶皱的问题，提供一种可避免褶皱的掩膜版及其制备方法。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种掩膜版，其包括相邻的图案区与封闭区，所述图案区中设有周期分布的开口和阻挡部，所述封闭区中具有衬底，

所述封闭区靠近图案区的边缘部分为过渡子区，其余为中心子区；在从与图案区相邻的边界指向中心子区的方向上，过渡子区中衬底的厚度逐渐增大；中心子区中各处衬底的厚度相同。

优选的是，所述过渡子区中衬底的厚度小于阻挡部的厚度；

所述中心子区中衬底的厚度等于阻挡部的厚度。

优选的是，所述衬底的厚度小于阻挡部的厚度。

进一步优选的是，所述封闭区中还设有周期分布的调节部；其中，所述调节部的周期图案与阻挡部的周期图案相同，所述衬底位于调节部之间。

进一步优选的是，所述调节部的厚度等于阻挡部的厚度。

优选的是，所述衬底具有相对的第一表面和第二表面；

所述中心子区中衬底的第一表面与第二表面相互平行；

所述过渡子区中衬底的第一表面相对中心子区中衬底的第一表面倾斜设置，所述过渡子区中衬底的第二表面相对中心子区中衬底的第一表面倾斜设置。

优选的是，所述掩膜版为精细金属掩膜版。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种上述掩膜版的制备方法，其包括：

提供厚度均匀的底板；

去除所述底板对应开口处的材料，以形成开口和阻挡部；以及，对所述底板对应过渡子区处的不同位置进行相应程度的减薄，以形成过渡子区中的衬底。

优选的是，所述对所述底板对应过渡子区处的不同位置进行相应程度的减薄包括：

用刻蚀剂处理底板对应过渡子区处以进行减薄，其中，处理各位置的刻蚀剂具有与该位置减薄程度相对应的浓度和/或流速。