[发明专利]三维半导体存储器件在审
申请号: | 201810153746.4 | 申请日: | 2018-02-22 |
公开(公告)号: | CN108461502A | 公开(公告)日: | 2018-08-28 |
发明(设计)人: | 金泓秀;朴玄睦;申重植 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L27/11582 | 分类号: | H01L27/11582;H01L27/1157 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 张波;王新华 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本公开提供了三维半导体存储器件。一种三维半导体存储器件可以包括垂直地穿过三维半导体存储器件的单元阵列区域中的堆叠结构的上结构和下结构的垂直沟道结构。垂直沟道结构可以具有在垂直沟道结构中的上结构与下结构相遇的水平面处具有台阶轮廓的侧壁。垂直虚设结构可以在该三维半导体存储器件的连接区域中垂直地穿过由上结构和下结构限定的阶梯结构,并且垂直虚设结构可以具有在上结构与下结构相遇的水平面处具有平坦轮廓的侧壁。 | ||
搜索关键词: | 三维半导体存储器 垂直沟道结构 垂直地 侧壁 虚设 垂直 单元阵列区域 穿过 堆叠结构 阶梯结构 结构限定 连接区域 平坦轮廓 台阶轮廓 | ||
【主权项】:
1.一种三维半导体存储器件,包括:垂直沟道结构,垂直地穿过所述三维半导体存储器件的单元阵列区域中的堆叠结构的上结构和下结构,所述垂直沟道结构具有在所述垂直沟道结构中的所述上结构与所述下结构相遇的水平面处具有台阶轮廓的侧壁;和垂直虚设结构,垂直地穿过由所述三维半导体存储器件的连接区域中的所述上结构和所述下结构限定的阶梯结构,所述垂直虚设结构具有在所述上结构与所述下结构相遇的水平面处具有平坦轮廓的侧壁。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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