[发明专利]曝光设备在审
| 申请号： | 201810150964.2 | 申请日： | 2018-02-13 |
| 公开（公告）号： | CN108445718A | 公开（公告）日： | 2018-08-24 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 佛山尉达科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 528137 广东省佛山市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种曝光设备，包括曝光腔室、光源组件、投影组件、承载台、固定支撑件、支撑框架；光源组件、投影组件和承载台均设置于曝光腔室内；光源组件用于产生曝光光线；支撑框架的基端部连接固定支撑件，并且支撑框架的末端部连接光源组件；支撑框架包括第一、第二移动框架以及转动构件；支撑框架包括第一活动部至第七活动部以及第一锁定构件至第七锁定构件，第一锁定构件至第七锁定构件分别用于将第一活动部至第七活动部锁定；固定支撑件由三个支撑柱构成，三个支撑柱彼此间隔预定距离并平行布置，三个支撑柱通过联接杆彼此连接，两个支撑柱的联接杆相互连接，联接杆连接支撑柱。本发明能调整光源组件在曝光设备中的位置。 | ||
| 搜索关键词： | 光源组件 支撑框架 锁定构件 活动部 支撑柱 曝光设备 联接杆 固定支撑件 投影组件 承载台 曝光腔 间隔预定距离 连接支撑柱 彼此连接 连接固定 平行布置 曝光光线 移动框架 转动构件 基端部 末端部 支撑件 锁定 室内 | ||
【主权项】：
1.一种曝光设备，其特征在于，所述曝光设备用于对显示器件或半导体器件进行曝光处理；所述曝光设备包括曝光腔室、光源组件、投影组件、承载台、固定支撑件、支撑框架；所述光源组件、所述投影组件和所述承载台均设置于所述曝光腔室内；所述光源组件用于产生曝光光线，并用于将所产生的所述曝光光线输出至所述投影组件；所述承载台用于承载待进行曝光处理的显示器件或半导体器件；所述支撑框架的基端部连接固定支撑件，并且所述支撑框架的末端部连接所述光源组件；所述支撑框架包括第一移动框架、第二移动框架以及具有正交的第一枢轴、第二枢轴的转动构件；所述支撑框架包括第一活动部至第七活动部以及第一锁定构件至第七锁定构件，所述第一锁定构件至所述第七锁定构件分别用于将所述第一活动部至所述第七活动部锁定；所述固定支撑件由三个支撑柱构成，三个所述支撑柱彼此间隔预定距离并平行布置，三个所述支撑柱通过联接杆彼此连接，两个所述支撑柱的所述联接杆相互连接，所述联接杆连接所述支撑柱。
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