[发明专利]曝光设备

权利要求书

1.一种曝光设备，其特征在于，所述曝光设备用于对显示器件或半导体器件进行曝光处理；

所述曝光设备包括曝光腔室、光源组件、投影组件、承载台、固定支撑件、支撑框架；

所述光源组件、所述投影组件和所述承载台均设置于所述曝光腔室内；

所述光源组件用于产生曝光光线，并用于将所产生的所述曝光光线输出至所述投影组件；

所述承载台用于承载待进行曝光处理的显示器件或半导体器件；

所述支撑框架的基端部连接固定支撑件，并且所述支撑框架的末端部连接所述光源组件；

所述支撑框架包括第一移动框架、第二移动框架以及具有正交的第一枢轴、第二枢轴的转动构件；

所述支撑框架包括第一活动部至第七活动部以及第一锁定构件至第七锁定构件，所述第一锁定构件至所述第七锁定构件分别用于将所述第一活动部至所述第七活动部锁定；

所述固定支撑件由三个支撑柱构成，三个所述支撑柱彼此间隔预定距离并平行布置，三个所述支撑柱通过联接杆彼此连接，两个所述支撑柱的所述联接杆相互连接，所述联接杆连接所述支撑柱。

2.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，在所述支撑框架中，所述第一移动框架的基端部分连接到所述固定支撑件的一个所述支撑柱，所述第二移动框架的基端部分连接到所述第一移动框架的远端部，所述转动构件的基座与所述第二移动框架的前端部连接。

3.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述支撑框架包括第一臂体、第二臂体和第三臂体。

4.根据权利要求3所述的曝光设备，其特征在于，所述第一臂体和所述第二臂体均形成为矩形框架形状。

5.根据权利要求4所述的曝光设备，其特征在于，所述第二移动框架设置有构造为平行连杆构件的所述第三臂体。

6.根据权利要求5所述的曝光设备，其特征在于，所述第三臂体由第一水平杆和第二水平杆连接。

7.根据权利要求6所述的曝光设备，其特征在于，所述第一水平杆、所述第二水平杆以及设置在所述第一水平杆、所述第二水平杆的端部之间的第一垂直杆、第二垂直杆形成为平行四边形形状。

8.根据权利要求3所述的曝光设备，其特征在于，所述支撑框架还包括活动轴，所述活动轴构成用于使所述第一臂体在水平方向上枢转的所述第一活动部。

9.根据权利要求8所述的曝光设备，其特征在于，所述第一锁定构件设置于所述活动轴中。

10.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述支撑框架的所述第一活动部至所述第七活动部用于调整所述光源组件的位置和/或姿势。