[发明专利]深度相机及其投影模组在审
| 申请号： | 201810124556.X | 申请日： | 2018-02-07 |
| 公开（公告）号： | CN108388071A | 公开（公告）日： | 2018-08-10 |
| 发明（设计）人： | 王兆民;黄源浩;肖振中 | 申请（专利权）人： | 深圳奥比中光科技有限公司 |
| 主分类号： | G03B21/20 | 分类号： | G03B21/20;G02B27/48;G02B27/42 |
| 代理公司： | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人： | 江耀纯 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种深度相机及其投影模组，该投影模组包括衬底；以规则晶格的形式排列在所述衬底上的光源；所述光源包括多个子光源，多个所述子光源排列构成多个子光源阵列，分别用于发射多个不规则的、疏密不同的光束阵列；所述子光源阵列由规则晶格上多个位置不同的所述子光源交错排列构成；透镜，用于准直或聚焦所述光束阵列，并向外发射与所述光束阵列相对应的斑点图案光束。本发明的投影模组不再以不规则晶格来设置光源，通过在一个规则晶格上设置的多个子光源构成的多个子光源阵列以分别发射多个不规则的、疏密不同的光束阵列，从而实现结构光的投影，降低了投影模组的设计、生产、制造成本。 | ||
| 搜索关键词： | 投影模组 光源 光束阵列 规则晶格 不规则 子光源 光源阵列 深度相机 疏密 衬底 发射 透镜 斑点图案 交错排列 制造成本 结构光 晶格 准直 投影 聚焦 生产 | ||
【主权项】：
1.一种投影模组，其特征在于，包括：衬底；以规则晶格的形式排列在所述衬底上的光源；所述光源包括多个子光源，多个所述子光源排列构成多个子光源阵列，分别用于发射多个不规则的、疏密不同的光束阵列；所述子光源阵列由规则晶格上多个位置不同的所述子光源交错排列构成；透镜，用于准直或聚焦所述光束阵列，并向外发射与所述光束阵列相对应的斑点图案光束。
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