[发明专利]一种匀相超临界浓度控制结构在审
申请号: | 201810122881.2 | 申请日: | 2018-02-07 |
公开(公告)号: | CN108339510A | 公开(公告)日: | 2018-07-31 |
发明(设计)人: | 张冠张;胡永高;刘琦;王子文;郑颖锴 | 申请(专利权)人: | 北京大学深圳研究生院 |
主分类号: | B01J19/24 | 分类号: | B01J19/24;B01D15/08 |
代理公司: | 深圳鼎合诚知识产权代理有限公司 44281 | 代理人: | 郭燕 |
地址: | 518055 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种匀相超临界浓度控制结构,包括反应腔体、控制容器;反应腔体用于进行超临界处理,反应腔体内注入有溶质;控制容器部分或整体置于反应腔体内,控制容器内装有溶质,溶质上覆盖有有机层,所述有机层可对控制容器中的溶质吸附与解吸附。由于控制容器内上表层的有机层可对溶质进行吸附和解吸附,当反应过程中反应腔体内的溶质被消耗后,溶质浓度下降,有机层表面对溶质会解吸附,使反应腔体中浓度上升,控制反应腔体中的浓度稳。当反应腔体中溶质浓度上升时,有机层表面会对溶质产生吸附作用,使反应腔体中浓度下降,从而控制反应腔体中的浓度稳定。 | ||
搜索关键词: | 溶质 反应腔体 控制容器 反应腔 有机层 有机层表面 浓度控制 体内 超临界 解吸附 吸附 超临界处理 浓度稳定 溶质吸附 吸附作用 上表层 上升时 消耗 覆盖 | ||
【主权项】:
1.一种匀相超临界浓度控制结构,其特征在于包括:反应腔体、控制容器;反应腔体用于进行超临界处理,反应腔体内注入有溶质;控制容器部分或整体置于反应腔体内,控制容器内装有溶质,溶质上覆盖有有机层,所述有机层可对控制容器中的溶质吸附与解吸附。
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