[发明专利]全反射液晶显示装置及其制备方法在审
| 申请号： | 201810122458.2 | 申请日： | 2018-02-07 |
| 公开（公告）号： | CN108459430A | 公开（公告）日： | 2018-08-28 |
| 发明（设计）人： | 姜妮;冯远明;吴小会 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 赵天月 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了全反射液晶显示装置及其制备方法。具体的，本发明提出了一种全反射液晶显示装置，包括：相对设置的第一基板以及第二基板，所述第一基板上限定出显示区以及非显示区，所述非显示区环绕所述显示区设置；色阻层，所述色阻层填充在所述第一基板以及所述第二基板之间并与所述非显示区对应的位置上，并在所述第一基板和所述第二基板之间形成密封空间，且所述色阻层的光学密度值不小于2.4。由此，该色阻层可以简便地保证非显示区域不漏光，从而无需在非显示区域设置黑矩阵，省略了全反射液晶显示装置制备过程中的黑矩阵掩膜版，降低了生产成本，缩短了工艺制程。 | ||
| 搜索关键词： | 液晶显示装置 第一基板 全反射 色阻层 第二基板 非显示区 非显示区域 黑矩阵 显示区 制备 密封空间 相对设置 制备过程 掩膜版 省略 漏光 制程 填充 生产成本 环绕 保证 | ||
【主权项】：
1.一种全反射液晶显示装置，其特征在于，包括：相对设置的第一基板以及第二基板，所述第一基板上限定出显示区以及非显示区，所述非显示区环绕所述显示区设置；色阻层，所述色阻层填充在所述第一基板以及所述第二基板之间并与所述非显示区对应的位置上，并在所述第一基板和所述第二基板之间形成密封空间，且所述色阻层的光学密度值不小于2.4。
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