[发明专利]全反射液晶显示装置及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201810122458.2 申请日: 2018-02-07
公开(公告)号: CN108459430A 公开(公告)日: 2018-08-28
发明(设计)人: 姜妮;冯远明;吴小会 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 赵天月
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 液晶显示装置 第一基板 全反射 色阻层 第二基板 非显示区 非显示区域 黑矩阵 显示区 制备 密封空间 相对设置 制备过程 掩膜版 省略 漏光 制程 填充 生产成本 环绕 保证
【说明书】:

发明公开了全反射液晶显示装置及其制备方法。具体的,本发明提出了一种全反射液晶显示装置,包括:相对设置的第一基板以及第二基板,所述第一基板上限定出显示区以及非显示区,所述非显示区环绕所述显示区设置;色阻层,所述色阻层填充在所述第一基板以及所述第二基板之间并与所述非显示区对应的位置上,并在所述第一基板和所述第二基板之间形成密封空间,且所述色阻层的光学密度值不小于2.4。由此,该色阻层可以简便地保证非显示区域不漏光,从而无需在非显示区域设置黑矩阵,省略了全反射液晶显示装置制备过程中的黑矩阵掩膜版,降低了生产成本,缩短了工艺制程。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,具体地,涉及全反射液晶显示装置及其制备方法。

背景技术

随着技术的发展,液晶显示器(LCD)被大量应用于电子产品领域,例如,电视、手机、电脑等,由于其重量轻、体积小、功耗低、无辐射等优良特性,被广泛应用于人们的日常生活中,已成为目前显示领域的主流。其中,全反射液晶显示器在户外使用时,较透射式液晶显示器显示效果良好,同时可以大幅降低功耗,提升产品的待机时间。随着智能穿戴以及户外手持终端等领域的兴起,全反射液晶显示器成为研究的热点。

然而,目前的全反射液晶显示装置及其制备方法,仍有待改进。

发明内容

本发明是基于发明人对于以下事实和问题的发现和认识作出的:

发明人发现,目前的全反射液晶显示装置普遍存在生产成本较高、工艺制程较长的问题。发明人经过深入研究以及大量实验发现,这是由目前的全反射液晶显示装置为了避免非显示区漏光,普遍需要在非显示区设置黑矩阵造成的。全反射液晶显示装置通常由阵列基板、彩色基板以及上偏光片组成,在两基板之间填充液晶,并且由隔垫物保持基板之间的间距。为了尽可能增大全反射液晶显示装置的开口率,提升反射率,目前的全反射液晶显示装置中,通常将栅极总线和数据总线设置在像素金属反射层的下方,因此栅极总线以及数据总线不占用显示区域的面积,也不需要在显示区设置黑矩阵。但是,为了保证周边非显示区域不漏光,仍然需要在非显示区域设置黑矩阵,从而在全反射液晶显示装置的制备过程中,需要使用黑矩阵掩膜版,并且增加了形成黑矩阵的工艺,增加了生产成本。因此,如果能提出一种全反射液晶显示装置,既能保证非显示区不漏光又无需在非显示区设置黑矩阵,将在很大程度上解决上述问题。

本发明旨在至少一定程度上缓解或解决上述提及问题中至少一个。

在本发明的一个方面,本发明提出了一种全反射液晶显示装置。根据本发明的实施例,该全反射液晶显示装置包括:相对设置的第一基板以及第二基板,所述第一基板上限定出显示区以及非显示区,所述非显示区环绕所述显示区设置;色阻层,所述色阻层填充在所述第一基板以及所述第二基板之间并与所述非显示区对应的位置上,并在所述第一基板和所述第二基板之间形成密封空间,且所述色阻层的光学密度值不小于2.4。由此,该色阻层可以简便地保证非显示区域不漏光,从而无需在非显示区域设置黑矩阵,省略了全反射液晶显示装置制备过程中的黑矩阵掩膜版,降低了生产成本,缩短了工艺制程。

根据本发明的实施例,该全反射液晶显示装置进一步包括:框胶层,所述框胶层设置在所述第一基板以及所述第二基板之间,且位于所述色阻层远离所述密封空间的一侧。由此,该框胶层可以进一步在第一基板以及第二基板之间形成密封,进一步提高了全反射液晶显示装置的使用性能。

根据本发明的实施例,所述色阻层包括多个依次层叠设置的色阻亚层。由此,通过多个色阻亚层重叠可以简便地减小色阻层的光透过率,保证非显示区域不漏光,进一步提高产品的使用性能。

根据本发明的实施例,靠近所述第一基板的所述色阻亚层在所述第一基板上的正投影,覆盖所述框胶层在所述第一基板上的正投影的至少一部分。由此,可以进一步保证框胶层所对应的非显示区域不漏光,提高了产品的使用性能。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810122458.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top