[发明专利]用于微流控芯片制备的台阶模板加工方法在审

专利信息
申请号: 201810078349.5 申请日: 2018-01-26
公开(公告)号: CN110078018A 公开(公告)日: 2019-08-02
发明(设计)人: 潘尧 申请(专利权)人: 苏州锐材半导体有限公司
主分类号: B81C1/00 分类号: B81C1/00;B01L3/00
代理公司: 苏州国卓知识产权代理有限公司 32331 代理人: 陆晓鹰
地址: 215000 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种用于微流控芯片制备的台阶模板加工方法,包括如下加工步骤:步骤1)清洗硅片,并在硅片表面做底部刻蚀形成底部流道,形成初刻模板;步骤2)在初刻模板表面未刻蚀的位置进行光刻,形成第二层流道;步骤3)去除底部流道中的胶,并得到最终模板。本发明所提供的针对微流控芯片制备的台阶模板,其加工成本低,制作简单,而且模板精度也更高。
搜索关键词: 微流控芯片 台阶模板 制备 底部流道 刻蚀 加工 硅片表面 加工步骤 模板表面 层流 硅片 光刻 去除 清洗 制作
【主权项】:
1.一种用于微流控芯片制备的台阶模板加工方法,其特征在于,包括如下加工步骤:步骤1)清洗硅片,并在硅片表面做底部刻蚀形成底部流道,形成初刻模板;步骤2)在初刻模板表面未刻蚀的位置进行光刻,形成第二层流道;步骤3)去除底部流道中的胶,并得到最终模板。
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