[发明专利]一种减缓或消除激光诱导光学元件后表面损伤的光学元件有效
| 申请号： | 201810069553.0 | 申请日： | 2018-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN108227047B | 公开（公告）日： | 2019-08-13 |
| 发明（设计）人： | 韩敬华;冯国英;沈雄;姜越;周寿桓 | 申请（专利权）人： | 四川大学 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10;G02B1/11 |
| 代理公司： | 成都虹桥专利事务所(普通合伙) 51124 | 代理人： | 李凌峰 |
| 地址： | 610065 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明涉及光学元件技术。本发明解决了目前光学元件基底的后表面易损伤的问题，提供了一种减缓或消除激光诱导光学元件后表面损伤的光学元件，其技术方案可概括为：一种减缓或消除激光诱导光学元件后表面损伤的光学元件，包括基底、所需薄膜及缓冲层薄膜，其中，缓冲层薄膜位于基底后表面与所需薄膜之间，缓冲层薄膜所采用材料的声阻抗数值与基底材料的声阻抗数值相减后的绝对值不超过基底和材料的声阻抗相加后与应力系数之积，其中应力系数决定与元件的抗张应力阈值和冲击波峰值，数值上等于两者之比。本发明的有益效果是：减缓或消除了光学元件基底的后表面损伤问题，适用于光学元件。 | ||
| 搜索关键词： | 光学元件 后表面 损伤 基底 缓冲层薄膜 激光诱导 声阻抗 应力系数 薄膜 基底后表面 基底材料 冲击波 张应力 相减 相加 | ||
【主权项】：
1.一种减缓或消除激光诱导光学元件后表面损伤的光学元件，包括基底及所需薄膜，其特征在于，还包括缓冲层薄膜，所述缓冲层薄膜位于基底后表面与所需薄膜之间；所述缓冲层薄膜所采用材料的声阻抗数值与基底材料的声阻抗数值相减后的绝对值小于等于基底材料和缓冲层薄膜材料的声阻抗相加后与应力系数之积，其中应力系数决定于基底材料的抗张应力阈值和冲击波峰值，数值上等于两者之比。
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